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水体中氯霉素在UV/H2O2下的降解及其对氯消毒过程的影响

摘要第5-6页
Abstract第6页
第1章 绪论第10-19页
    1.1 氯霉素在水环境中的污染第10-11页
        1.1.1 抗生素造成水环境污染的原因第10页
        1.1.2 氯霉素的特点第10-11页
        1.1.3 氯霉素的应用及危害第11页
    1.2 水体中氯霉素的去除第11-12页
    1.3 高级氧化技术简介第12-15页
        1.3.1 高级氧化技术第12-13页
        1.3.2 UV/H_2O_2技术第13-15页
    1.4 氯消毒技术第15-16页
        1.4.1 氯消毒技术的发展第15页
        1.4.2 氯消毒技术的应用和意义第15-16页
    1.5 消毒副产物第16页
        1.5.1 消毒副产物的形成第16页
        1.5.2 消毒副产物的种类和危害第16页
    1.6 SOS/umu技术第16-17页
        1.6.1 SOS/umu方法和原理第16-17页
        1.6.2 SOS/umu的应用和意义第17页
    1.7 研究思路及内容第17-19页
        1.7.1 研究思路第17-18页
        1.7.2 研究内容第18-19页
第2章 水体中氯霉素在UV/H_2O_2技术下的降解第19-32页
    2.1 前言第19页
    2.2 实验部分第19-23页
        2.2.1 实验材料第19页
        2.2.2 实验装置第19-20页
        2.2.3 仪器第20页
        2.2.4 分析方法第20-23页
    2.3 结果与讨论第23-31页
        2.3.1 实验装置及有效光强测定第23-24页
        2.3.2 不同处理条件下氯霉素的降解第24-25页
        2.3.3 UV/H_2O_2高级氧化处理技术下氯霉素的降解第25-28页
        2.3.4 SOS/umu方法评价其遗传毒性及致癌风险第28-29页
        2.3.5 氯霉素可能的转化途径第29-31页
    2.4 小结第31-32页
第3章 水体中天然有机物与氯霉素在UV/H_2O_2技术下的竞争降解第32-40页
    3.1 前言第32页
    3.2 实验部分第32-33页
        3.2.1 实验材料第32页
        3.2.2 实验装置第32页
        3.2.3 仪器第32-33页
        3.2.4 检测方法第33页
        3.2.5 实验设计第33页
    3.3 结果与讨论第33-39页
        3.3.1 原水中氯霉素在UV/H_2O_2技术下的降解第33-34页
        3.3.2 探究NOM对氯霉素降解的影响第34-35页
        3.3.3 HA在UV/H_2O_2技术下的降解第35-36页
        3.3.4 HA与氯霉素在UV/H_2O_2技术下的竞争降解第36-39页
    3.4 小结第39-40页
第4章 高级氧化技术处理氯霉素对氯消毒过程的影响第40-53页
    4.1 前言第40页
    4.2 实验部分第40-42页
        4.2.1 实验装置第40-41页
        4.2.2 实验材料第41页
        4.2.3 仪器第41页
        4.2.4 检测方法第41页
        4.2.5 实验设计第41-42页
    4.3 结果与讨论第42-51页
        4.3.1 DBPs标准品的检测第42-43页
        4.3.2 微量CAP对原水中DBPs的形成带来的影响第43-45页
        4.3.3 以CAP为前体物,初始氯浓度对DBPs的生成的影响第45-47页
        4.3.4 AOPs技术处理CAP过程对DBPs生成的影响第47-50页
        4.3.5 UV/H_2O_2高级氧化技术对CAP生成DBPs产生影响的原因第50-51页
    4.4 小结第51-53页
第5章 结论与展望第53-56页
    5.1 结论第53-54页
    5.2 论文创新点及不足之处第54页
    5.3 研究建议第54-56页
参考文献第56-64页
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果第64-65页
致谢第65-66页

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