| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3页 |
| 1 绪论 | 第6-20页 |
| 1.1 高熵合金的概述 | 第6-7页 |
| 1.2 高熵合金的基本特征 | 第7-12页 |
| 1.2.1 高熵合金的定义及热力学分析 | 第7-8页 |
| 1.2.2 高熵合金的特点 | 第8-11页 |
| 1.2.3 高熵合金的性能特征 | 第11-12页 |
| 1.3 高熵合金薄膜的研究现状及发展 | 第12-15页 |
| 1.4 磁控溅射镀膜技术 | 第15-17页 |
| 1.4.1 磁控溅射技术原理 | 第15-16页 |
| 1.4.2 磁控溅射技术的特点 | 第16页 |
| 1.4.3 射频磁控溅射镀膜技术的工艺参数 | 第16-17页 |
| 1.5 本文主要研究内容及目的 | 第17-20页 |
| 1.5.1 选题背景及研究内容 | 第17-18页 |
| 1.5.2 课题研究主要目标 | 第18-19页 |
| 1.5.3 技术路线 | 第19-20页 |
| 2 实验方法 | 第20-26页 |
| 2.1 合金元素的选择 | 第20页 |
| 2.2 FeNiCoCrAl高熵合金靶材的制备 | 第20-21页 |
| 2.3 FeNiCoCrAl高熵合金薄膜样品的制备 | 第21-23页 |
| 2.4 FeNiCoCrAl高熵合金薄膜样品的表征与测试 | 第23-26页 |
| 2.4.1 EDS成分分析 | 第23页 |
| 2.4.2 X射线衍射分析 | 第23-24页 |
| 2.4.3 SEM表面形貌分析 | 第24页 |
| 2.4.4 纳米压痕硬度测试 | 第24-25页 |
| 2.4.5 DSC晶化转变温度测试 | 第25-26页 |
| 3 溅射参数对FeNiCoCrAl高熵合金薄膜成分、组织及性能的影响 | 第26-41页 |
| 3.1 FeNiCoCrAl高熵合金靶材的表征与测试 | 第26-29页 |
| 3.1.1 靶材的成分 | 第26页 |
| 3.1.2 靶材的微观组织 | 第26-28页 |
| 3.1.3 靶材的相结构 | 第28-29页 |
| 3.2 FeNiCoCrAl高熵合金薄膜成分、组织及力学性能 | 第29-39页 |
| 3.2.1 薄膜的成分 | 第30-32页 |
| 3.2.2 薄膜的相结构 | 第32-33页 |
| 3.2.3 薄膜的表面形貌 | 第33-37页 |
| 3.2.4 薄膜的硬度 | 第37-38页 |
| 3.2.5 薄膜的晶化温度 | 第38-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-41页 |
| 4 退火时间对FeNiCoCrAl薄膜微观组织及性能的影响 | 第41-52页 |
| 4.1 退火时间对薄膜表面形貌的影响 | 第41-43页 |
| 4.2 退火时间对薄膜成分的影响 | 第43-45页 |
| 4.3 退火时间薄膜相结构的影响 | 第45-49页 |
| 4.4 退火时间薄膜硬度的影响 | 第49-50页 |
| 4.5 本章小结 | 第50-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |
