尖晶石光学零件抛光表面特性与形貌控制研究
| 摘要 | 第9-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-21页 |
| 1.1 课题来源与意义 | 第12-13页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第12页 |
| 1.1.2 课题研究的背景与意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-19页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第14-17页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3 论文主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 尖晶石抛光表面特征研究 | 第21-29页 |
| 2.1 尖晶石抛光形貌分析 | 第21-24页 |
| 2.1.1 抛光形貌特征描述 | 第21-22页 |
| 2.1.2 谷粒形貌特性分析 | 第22-24页 |
| 2.2 抛光盘柔度与微观形貌的内在关系研究 | 第24-26页 |
| 2.3 尖晶石抛光工艺参数设计 | 第26-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 尖晶石磁流变抛光研究 | 第29-35页 |
| 3.1 尖晶石磁流变抛光特性分析 | 第29-31页 |
| 3.2 磁流变抛光工艺参数设计及验证 | 第31-34页 |
| 3.2.1 面形参数数列设计 | 第31-32页 |
| 3.2.2 面形误差和表面粗糙度关联分析 | 第32-33页 |
| 3.2.3 抛光参数的灰色关联对比及验证 | 第33-34页 |
| 3.3 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 尖晶石电子束改性分析与参数设计 | 第35-46页 |
| 4.1 尖晶石电子束改性机理分析 | 第35-36页 |
| 4.2 电子束改性温度场分析 | 第36-38页 |
| 4.2.1 改性层导热形式分析 | 第36-37页 |
| 4.2.2 温度分布仿真分析 | 第37-38页 |
| 4.3 电子束改性能量密度分析 | 第38-42页 |
| 4.3.1 尖晶石改性实体建模 | 第38-39页 |
| 4.3.2 尖晶石改性实体划分 | 第39-40页 |
| 4.3.3 尖晶石温度场和热应力场仿真 | 第40-42页 |
| 4.4 尖晶石电子束改性参数设计 | 第42-44页 |
| 4.4.1 改性层深度设计 | 第42-43页 |
| 4.4.2 改性层能量吸收分析 | 第43-44页 |
| 4.4.3 改性层熔凝能量设计 | 第44页 |
| 4.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 尖晶石改性层抛光加工与形貌控制 | 第46-56页 |
| 5.1 改性层深度检测方法设计 | 第46-50页 |
| 5.1.1 改性层深度检测方法 | 第46-47页 |
| 5.1.2 过渡区域判定 | 第47-49页 |
| 5.1.3 尖晶石改性层深度测试 | 第49-50页 |
| 5.2 尖晶石改性层加工 | 第50-52页 |
| 5.3 抛光表面微观形貌分析 | 第52-53页 |
| 5.4 抛光表面微观形貌控制 | 第53-55页 |
| 5.4.1 峰值去除效率分析 | 第53-54页 |
| 5.4.2 磁流变抛光微观形貌控制 | 第54-55页 |
| 5.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 6.1 全文总结 | 第56页 |
| 6.2 研究展望 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第63页 |
