| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 铝合金活塞材料研究现状 | 第8-10页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第9页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2.3 铝活塞的应用缺陷 | 第10页 |
| 1.3 铝合金活塞表面热防护技术 | 第10-12页 |
| 1.3.1 阳极氧化技术 | 第11页 |
| 1.3.2 激光重熔处理 | 第11页 |
| 1.3.3 气隙隔热技术 | 第11页 |
| 1.3.4 陶瓷纤维增强技术 | 第11-12页 |
| 1.3.5 等离子喷涂陶瓷技术 | 第12页 |
| 1.4 微弧氧化技术研究进展 | 第12-15页 |
| 1.4.1 微弧氧化膜层击穿机理研究 | 第12-13页 |
| 1.4.2 微弧氧化膜层性能影响因素 | 第13-14页 |
| 1.4.3 铝硅合金微弧氧化研究 | 第14-15页 |
| 1.5 微弧氧化耐热涂层研究 | 第15-16页 |
| 1.6 本课题研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 实验材料及测试方法 | 第17-22页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 实验材料及设备 | 第17-19页 |
| 2.2.1 实验材料及预处理 | 第17-18页 |
| 2.2.2 实验设备及药品 | 第18-19页 |
| 2.3 微弧氧化工艺优化及检测方法 | 第19页 |
| 2.3.1 微弧氧化膜层制备 | 第19页 |
| 2.3.2 微弧氧化试样后处理 | 第19页 |
| 2.3.3 微弧氧化膜层基本性能检测方法 | 第19页 |
| 2.4 CeO_2掺杂微弧氧化膜层制备及检测方法 | 第19-22页 |
| 2.4.1 CeO_2掺杂微弧氧化膜层制备 | 第19-20页 |
| 2.4.2 CeO_2掺杂微弧氧化试样后处理 | 第20页 |
| 2.4.3 CeO_2掺杂微弧氧化膜层特性检测方法 | 第20-22页 |
| 第3章 微弧氧化工艺研究结果及分析 | 第22-33页 |
| 3.1 引言 | 第22页 |
| 3.2 正交实验设计 | 第22-23页 |
| 3.2.1 正交实验因素范围设定 | 第22-23页 |
| 3.2.2 正交实验表的设定 | 第23页 |
| 3.3 正交实验结果 | 第23-25页 |
| 3.4 正交实验硬度结果分析 | 第25-29页 |
| 3.4.1 极差分析 | 第25-28页 |
| 3.4.2 方差分析 | 第28-29页 |
| 3.5 正交实验厚度结果分析 | 第29-31页 |
| 3.5.1 极差分析 | 第29-31页 |
| 3.5.2 方差分析 | 第31页 |
| 3.6 正交实验最佳工艺确定 | 第31-32页 |
| 3.7 结论 | 第32-33页 |
| 第4章 CeO_2掺杂改性对微弧氧化膜层特性影响 | 第33-53页 |
| 4.1 前言 | 第33页 |
| 4.2 改性微弧氧化膜层基本性能检测 | 第33-38页 |
| 4.2.1 氧化电压-时间曲线 | 第33-34页 |
| 4.2.2 硬度与厚度检测 | 第34-35页 |
| 4.2.3 粗糙度测试 | 第35-36页 |
| 4.2.4 膜层结合力测试 | 第36-37页 |
| 4.2.5 膜层耐蚀性测试 | 第37-38页 |
| 4.3 改性微弧氧化膜层表截面形貌、元素成分和相组成分析 | 第38-45页 |
| 4.3.1 微弧氧化膜表面形貌及元素分布 | 第38-41页 |
| 4.3.2 微弧氧化膜截面形貌及元素分布 | 第41-42页 |
| 4.3.3 微弧氧化膜层的相组成 | 第42-45页 |
| 4.4 CeO_2掺杂改性对微弧氧化膜层耐热性能的影响 | 第45-47页 |
| 4.4.1 膜层抗热震性能 | 第45页 |
| 4.4.2 膜层高温抗氧化性能 | 第45-46页 |
| 4.4.3 膜层隔热性能 | 第46-47页 |
| 4.5 CeO_2微粒掺杂机理探讨 | 第47-52页 |
| 4.6 结论 | 第52-53页 |
| 第5章 结论与展望 | 第53-55页 |
| 5.1 结论 | 第53-54页 |
| 5.2 建议 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第62页 |
