Y掺杂CdO薄膜的性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-33页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 透明导电氧化物的性质 | 第12-16页 |
| 1.2.1 电学性质 | 第12-13页 |
| 1.2.2 光学性质 | 第13-16页 |
| 1.3 CdO的基本性质 | 第16-19页 |
| 1.3.1 CdO的能带结构 | 第16-17页 |
| 1.3.2 CdO的电学性质 | 第17-18页 |
| 1.3.3 CdO的光学性质 | 第18-19页 |
| 1.4 薄膜制备方法 | 第19-25页 |
| 1.4.1 磁控溅射 | 第19-21页 |
| 1.4.2 脉冲激光沉积(PLD) | 第21-22页 |
| 1.4.3 化学气相沉积(CVD) | 第22-23页 |
| 1.4.4 喷雾热解 | 第23-24页 |
| 1.4.5 溶液沉积 | 第24-25页 |
| 1.5 薄膜的表征方法 | 第25-31页 |
| 1.5.1 薄膜厚度 | 第25-26页 |
| 1.5.2 薄膜形貌 | 第26-27页 |
| 1.5.3 成分表征 | 第27-29页 |
| 1.5.4 晶体结构的表征 | 第29页 |
| 1.5.5 电学性质的表征 | 第29-31页 |
| 1.5.6 光学性质的表征 | 第31页 |
| 1.6 本文选题的研究内容及意义 | 第31-33页 |
| 第2章 实验内容与方法 | 第33-37页 |
| 2.1 Y掺杂CdO薄膜的制备 | 第33-35页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第33页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第33-34页 |
| 2.1.3 实验内容 | 第34-35页 |
| 2.1.4 快速退火处理 | 第35页 |
| 2.2 Y掺杂CdO薄膜的表征 | 第35-37页 |
| 2.2.1 薄膜厚度表征 | 第35-36页 |
| 2.2.2 薄膜成分表征 | 第36页 |
| 2.2.3 薄膜晶体结构表征 | 第36页 |
| 2.2.4 电学性质表征 | 第36页 |
| 2.2.5 光学性质表征 | 第36-37页 |
| 第3章 Y掺杂CdO薄膜的性能 | 第37-47页 |
| 3.1 掺杂浓度 | 第37-39页 |
| 3.2 薄膜晶体结构 | 第39-40页 |
| 3.3 Y掺杂CdO薄膜电学性质 | 第40-41页 |
| 3.4 Y掺杂CdO薄膜光学性质 | 第41-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-47页 |
| 第4章 退火对CYO薄膜性能的影响 | 第47-59页 |
| 4.1 退火温度对CYO薄膜性能的影响 | 第47-54页 |
| 4.1.1 薄膜结构变化 | 第47-49页 |
| 4.1.2 薄膜电学性质变化 | 第49-54页 |
| 4.2 退火时间对CYO薄膜性能的影响 | 第54-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-59页 |
| 第5章 Y和In共掺杂CdO薄膜性能 | 第59-65页 |
| 5.1 实验内容 | 第59页 |
| 5.2 共掺杂薄膜性能 | 第59-62页 |
| 5.2.1 共掺杂薄膜的电学性质 | 第59-60页 |
| 5.2.2 共掺杂薄膜的光学性质 | 第60-62页 |
| 5.3 退火对共掺杂薄膜的影响 | 第62-64页 |
| 5.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 第6章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 总结 | 第65-66页 |
| 6.2 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第74页 |
