| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第10-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 高介电性能聚合物基复合材料的研究现状 | 第11-18页 |
| 1.2.1 聚合物基复合材料的理论模型 | 第11-13页 |
| 1.2.2 陶瓷/聚合物复合材料研究现状 | 第13-16页 |
| 1.2.3 导体/聚合物复合材料研究现状 | 第16-18页 |
| 1.3 高介电聚合物复合材料的应用现状 | 第18-21页 |
| 1.3.1 微电子领域 | 第18-19页 |
| 1.3.2 电气工程 | 第19-20页 |
| 1.3.3 能量存储 | 第20页 |
| 1.3.4 有机场效应晶体管 | 第20-21页 |
| 1.4 本论文研究内容和创新点 | 第21-23页 |
| 1.4.1 研究内容 | 第21-22页 |
| 1.4.2 创新点 | 第22-23页 |
| 第2章 SiO_2@RGO/PVDF复合材料的制备及性能研究 | 第23-42页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 实验部分 | 第23-29页 |
| 2.2.1 原料与仪器 | 第23-25页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第25-27页 |
| 2.2.3 测试表征 | 第27-29页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第29-41页 |
| 2.3.1 SiO_2@RGO颗粒的形貌表征 | 第29-30页 |
| 2.3.2 SiO_2@RGO颗粒的红外光谱分析 | 第30-31页 |
| 2.3.3 SiO_2@RGO颗粒的拉曼光谱分析 | 第31-32页 |
| 2.3.4 SiO_2@RGO颗粒的热重分析 | 第32-33页 |
| 2.3.5 SiO_2@RGO/PVDF复合材料的形貌表征 | 第33-35页 |
| 2.3.6 SiO_2@RGO/PVDF复合材料的介电性能 | 第35-37页 |
| 2.3.7 SiO_2@RGO/PVDF复合材料的电导率 | 第37-38页 |
| 2.3.8 SiO_2@RGO/PVDF复合材料的击穿强度 | 第38-39页 |
| 2.3.9 SiO_2@RGO/PVDF复合材料的储能密度 | 第39-41页 |
| 2.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第3章 HPC-BT/PVDF复合材料的制备及性能研究 | 第42-59页 |
| 3.1 引言 | 第42页 |
| 3.2 实验部分 | 第42-46页 |
| 3.2.1 原料与仪器 | 第42-43页 |
| 3.2.2 实验步骤 | 第43-45页 |
| 3.2.3 测试表征 | 第45-46页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第46-57页 |
| 3.3.1 HPC-BT颗粒的形貌表征 | 第46-49页 |
| 3.3.2 HPC-BT颗粒的XRD分析 | 第49页 |
| 3.3.3 HPC-BT颗粒的热重分析 | 第49-50页 |
| 3.3.4 HPC-BT/PVDF复合材料的形貌表征 | 第50-51页 |
| 3.3.5 HPC-BT/PVDF复合材料的XRD分析 | 第51-52页 |
| 3.3.6 HPC-BT/PVDF复合材料的介电性能 | 第52-54页 |
| 3.3.7 HPC-BT/PVDF复合材料的电导率 | 第54-55页 |
| 3.3.8 HPC-BT/PVDF复合材料的击穿强度 | 第55页 |
| 3.3.9 HPC-BT/PVDF复合材料的储能密度 | 第55-57页 |
| 3.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 第4章 三层膜结构PVDF复合材料的制备及性能研究 | 第59-70页 |
| 4.1 引言 | 第59页 |
| 4.2 实验部分 | 第59-62页 |
| 4.2.1 原料及仪器 | 第59-60页 |
| 4.2.2 实验步骤 | 第60-61页 |
| 4.2.3 测试表征 | 第61-62页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第62-68页 |
| 4.3.1 三层膜结构PVDF复合材料的形貌表征 | 第62-63页 |
| 4.3.2 三层膜结构PVDF复合材料的介电性能 | 第63-64页 |
| 4.3.3 三层膜结构PVDF复合材料的电导率 | 第64-65页 |
| 4.3.4 三层膜结构PVDF复合材料的击穿强度 | 第65-66页 |
| 4.3.5 三层膜结构PVDF复合材料的储能密度 | 第66-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-82页 |
| 攻读学位期间取得学术成果 | 第82页 |
