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一维N掺杂β-Ga2O3纳米线的制备及特性研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
第1章 引言第8-15页
   ·纳米科学与技术发展简介第8页
   ·一维纳米材料综述第8-10页
     ·一维纳米材料的研究进展与发展趋势第8-9页
     ·一维纳米材料的制备第9-10页
   ·一维纳米材料的掺杂现状第10-11页
   ·Ga_2O_3纳米线的基本性质及研究进展第11-12页
     ·Ga_2O_3的基本性质第11-12页
     ·Ga_2O_3纳米线的研究进展第12页
   ·本论文的选题背景与研究内容第12-13页
   ·本论文的研究意义与创新点第13-15页
第2章 实验过程与测试表征第15-20页
   ·Si片预处理第15-16页
     ·Si片预处理第15页
     ·镀Au膜第15-16页
   ·实验过程第16-17页
     ·实验设备第16-17页
     ·实验方案第17页
   ·测试表征方法简介第17-20页
     ·X射线衍射(XRD)原理第17-18页
     ·透射电子显微镜(TEM)原理第18页
     ·扫描电子显微镜(SEM)原理第18页
     ·荧光光谱(PL)原理第18-20页
第三章 实验参数对N掺杂β-Ga_2O_3纳米线表面形貌的影响第20-30页
   ·催化剂对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌的影响第20-22页
   ·生长温度对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌的影响第22-25页
   ·NH_3流量对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌的影响第25-27页
   ·生长时间对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌的影响第27-28页
   ·本章小结第28-30页
第四章 NH_3流量对N掺杂β-Ga_2O_3纳米线光电特性的影响第30-39页
   ·形貌表征第30-31页
   ·结构表征第31-33页
   ·成分表征第33-35页
   ·光学特性表征第35-37页
   ·电学特性表征第37-38页
   ·本章小结第38-39页
结论第39-40页
参考文献第40-42页
就读硕士期间论文发表情况第42-43页
致谢第43页

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