摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第1章 引言 | 第8-15页 |
·纳米科学与技术发展简介 | 第8页 |
·一维纳米材料综述 | 第8-10页 |
·一维纳米材料的研究进展与发展趋势 | 第8-9页 |
·一维纳米材料的制备 | 第9-10页 |
·一维纳米材料的掺杂现状 | 第10-11页 |
·Ga_2O_3纳米线的基本性质及研究进展 | 第11-12页 |
·Ga_2O_3的基本性质 | 第11-12页 |
·Ga_2O_3纳米线的研究进展 | 第12页 |
·本论文的选题背景与研究内容 | 第12-13页 |
·本论文的研究意义与创新点 | 第13-15页 |
第2章 实验过程与测试表征 | 第15-20页 |
·Si片预处理 | 第15-16页 |
·Si片预处理 | 第15页 |
·镀Au膜 | 第15-16页 |
·实验过程 | 第16-17页 |
·实验设备 | 第16-17页 |
·实验方案 | 第17页 |
·测试表征方法简介 | 第17-20页 |
·X射线衍射(XRD)原理 | 第17-18页 |
·透射电子显微镜(TEM)原理 | 第18页 |
·扫描电子显微镜(SEM)原理 | 第18页 |
·荧光光谱(PL)原理 | 第18-20页 |
第三章 实验参数对N掺杂β-Ga_2O_3纳米线表面形貌的影响 | 第20-30页 |
·催化剂对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌的影响 | 第20-22页 |
·生长温度对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌的影响 | 第22-25页 |
·NH_3流量对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌的影响 | 第25-27页 |
·生长时间对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌的影响 | 第27-28页 |
·本章小结 | 第28-30页 |
第四章 NH_3流量对N掺杂β-Ga_2O_3纳米线光电特性的影响 | 第30-39页 |
·形貌表征 | 第30-31页 |
·结构表征 | 第31-33页 |
·成分表征 | 第33-35页 |
·光学特性表征 | 第35-37页 |
·电学特性表征 | 第37-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
结论 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-42页 |
就读硕士期间论文发表情况 | 第42-43页 |
致谢 | 第43页 |