超导带材用双面LaMnO3缓冲层的制备研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第10-21页 |
| 1.1 前言 | 第10-11页 |
| 1.2 高温超导技术的应用 | 第11-13页 |
| 1.3 YBCO带材的发展现状和趋势 | 第13-14页 |
| 1.4 YBCO超导带材的技术路线 | 第14-17页 |
| 1.5 LMO缓冲层研究现状 | 第17-19页 |
| 1.6 选题依据及意义 | 第19-21页 |
| 第二章 实验设备简介及样品表征 | 第21-32页 |
| 2.1 实验方法 | 第21-24页 |
| 2.1.1 磁控反应溅射 | 第21-23页 |
| 2.1.2 中频磁控反应溅射 | 第23-24页 |
| 2.2 中频磁控反应溅射系统及制备流程简介 | 第24-27页 |
| 2.2.1 系统简介 | 第24-25页 |
| 2.2.2 LMO的制备流程 | 第25-26页 |
| 2.2.3 加热装置的改进 | 第26-27页 |
| 2.3 LMO及YBCO薄膜的表征 | 第27-32页 |
| 2.3.1 X射线衍射表征 | 第27-29页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
| 2.3.3 原子力显微镜 | 第30-31页 |
| 2.3.4 电感耦合等离子体原子发射光谱 | 第31页 |
| 2.3.5 临界电流密度J_c的侧量 | 第31-32页 |
| 第三章 中频磁控反应溅射方法的研究 | 第32-42页 |
| 3.1 中频反应溅射LMO薄膜的特性 | 第32-37页 |
| 3.1.1 恒流工作状态研究 | 第32-34页 |
| 3.1.2 恒功率工作状态研究 | 第34-35页 |
| 3.1.3 恒压工作状态研究 | 第35-37页 |
| 3.2 LMO薄膜的沉积速率 | 第37-38页 |
| 3.3 LMO薄膜的成分比 | 第38-40页 |
| 3.4 LMO薄膜的平整度 | 第40-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 LMO薄膜的生长工艺研究 | 第42-65页 |
| 4.1 溅射电压对LMO薄膜生长的影响 | 第42-45页 |
| 4.2 氧通量对LMO薄膜生长的影响 | 第45-48页 |
| 4.2.1 氧通量对LMO薄膜织构的影响 | 第45-47页 |
| 4.2.2 氧通量对LMO薄表面形貌的影响 | 第47-48页 |
| 4.3 沉积温度对LMO薄膜生长的影响 | 第48-52页 |
| 4.3.1 加热电流对LMO薄膜织构的影响 | 第49-51页 |
| 4.3.2 加热电流对LMO薄膜表面形貌的影响 | 第51-52页 |
| 4.4 氩气压对LMO薄膜生长的影响 | 第52-54页 |
| 4.4.1 氩气压对LMO薄膜织构的影响 | 第52-53页 |
| 4.4.2 氩气压对LMO薄膜表面形貌的影响 | 第53-54页 |
| 4.5 走带角度对LMO薄膜生长的影响 | 第54-57页 |
| 4.5.1 走带角度对LMO薄膜织构的影响 | 第55页 |
| 4.5.2 走带角度对LMO薄膜表面形貌的影响 | 第55-57页 |
| 4.6 走带速率对LMO薄膜生长的影响 | 第57-59页 |
| 4.6.1 走带速率对LMO薄膜织构的影响 | 第57-58页 |
| 4.6.2 走带速率对LMO薄膜表面形貌的影响 | 第58-59页 |
| 4.7 衬底氧化镁织构和形貌对LMO薄膜的影响 | 第59-62页 |
| 4.8 LMO薄膜的实用性验证 | 第62-63页 |
| 4.9 本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 双面LMO薄膜长带的制备 | 第65-78页 |
| 5.1 长带制备前的准备 | 第65-69页 |
| 5.1.1 基带打火的排除 | 第65-66页 |
| 5.1.2 基带残留有机物的检测 | 第66-69页 |
| 5.2 双面LMO薄膜的一致性 | 第69-71页 |
| 5.3 长带LMO薄膜的制备的均匀性 | 第71-76页 |
| 5.3.1 溅射过程的稳定性 | 第71-72页 |
| 5.3.2 单面长带LMO薄膜的均匀性 | 第72-76页 |
| 5.4 双面LMO薄膜长带的制备 | 第76-77页 |
| 5.5 本章小结 | 第77-78页 |
| 第六章 结论与展望 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-85页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第85-86页 |
