CoFe2O4@TiO2印迹材料对于诺氟沙星的去除研究
| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 1 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 氟喹诺酮类物质的存在及污染现状 | 第12-16页 |
| 1.2 氟喹诺酮类物质的去除技术 | 第16-21页 |
| 1.2.1 常规控制技术 | 第16-19页 |
| 1.2.2 分子印迹技术 | 第19-20页 |
| 1.2.3 磁分离技术 | 第20-21页 |
| 1.3 研究目的与内容 | 第21-24页 |
| 1.3.1 研究目的与意义 | 第21-22页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第22-24页 |
| 2 实验材料与方法 | 第24-35页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第24-26页 |
| 2.2 材料制备与优化 | 第26-28页 |
| 2.2.1 材料制备 | 第26-27页 |
| 2.2.2 不同印迹方法对比 | 第27-28页 |
| 2.3 材料表征方法 | 第28页 |
| 2.4 实验方法 | 第28-32页 |
| 2.4.1 吸附实验 | 第28-30页 |
| 2.4.2 光催化原位再生实验 | 第30-32页 |
| 2.5 仪器分析方法 | 第32-35页 |
| 3 磁性印迹材料的吸附性能研究 | 第35-58页 |
| 3.1 材料表征分析 | 第35-38页 |
| 3.2 磁性印迹材料对诺氟沙星吸附性能研究 | 第38-44页 |
| 3.2.1 材料投加量 | 第38页 |
| 3.2.2 吸附动力学 | 第38-40页 |
| 3.2.3 吸附等温线 | 第40-42页 |
| 3.2.4 吸附热力学 | 第42-44页 |
| 3.3 选择性吸附性能 | 第44-49页 |
| 3.3.1 一元选择性吸附 | 第45-46页 |
| 3.3.2 多元选择性吸附 | 第46-49页 |
| 3.4 吸附影响因素 | 第49-56页 |
| 3.4.1 pH | 第49-50页 |
| 3.4.2 腐殖酸 | 第50-52页 |
| 3.4.3 阴阳离子 | 第52-54页 |
| 3.4.4 天然水体介质 | 第54-56页 |
| 3.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 4 磁性印迹材料光催化再生性能研究 | 第58-75页 |
| 4.1 光催化再生反应动力学 | 第58-62页 |
| 4.2 光催化再生反应机理 | 第62-67页 |
| 4.2.1 光催化再生产物鉴定 | 第62-66页 |
| 4.2.2 矿化度分析 | 第66-67页 |
| 4.3 原位再生和循环利用性能 | 第67-68页 |
| 4.4 光催化再生的影响因素 | 第68-73页 |
| 4.4.1 投加量 | 第68-69页 |
| 4.4.2 pH | 第69-70页 |
| 4.4.3 腐殖酸 | 第70-71页 |
| 4.4.4 阴阳离子 | 第71-72页 |
| 4.4.5 天然水体介质 | 第72-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-75页 |
| 5 结论与建议 | 第75-77页 |
| 5.1 结论 | 第75-76页 |
| 5.2 建议 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-87页 |
| 作者简介 | 第87页 |
