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磁控溅射法制备氧传感器电解质膜

摘要第3-4页
Abstract第4页
引言第7-8页
1 文献综述第8-21页
    1.1 汽车用氧传感器的应用第8页
    1.2 汽车用氧传感器的分类第8-13页
        1.2.1 氧浓差电池型氧传感器第8-10页
        1.2.2 氧化物半导体型氧传感器第10页
        1.2.3 极限电流型氧传感器第10-13页
    1.3 固体电解质材料第13-15页
        1.3.1 ZrO_2基固体电解质第13-14页
        1.3.2 CeO_2基固体电解质第14-15页
    1.4 固体电子-氧离子混合导体第15-17页
        1.4.1 钙钛矿型氧化物混合导体导电机理第16页
        1.4.2 透氧机理第16-17页
    1.5 磁控溅射沉积制备工艺第17-21页
        1.5.1 磁控溅射的基本原理及特点第17-18页
        1.5.2 磁控溅射法制备薄膜的基本流程第18-19页
        1.5.3 影响薄膜属性的因素分析第19-21页
2 LSM 致密扩散障碍层与 LSCF 多孔基体的制备第21-29页
    2.1 实验原料及仪器设备第21页
    2.2 配料计算第21-22页
    2.3 LSM 致密扩散障碍层制备第22-26页
        2.3.1 LSM 致密扩散障碍层粉体的物相分析第24页
        2.3.2 LSM 致密扩散障碍层的制备与微观形貌第24-26页
    2.4 LSCF 多孔基体制备第26-29页
        2.4.1 LSCF 粉体的物相分析第27-28页
        2.4.2 LSCF 多孔基体的制备与微观形貌第28-29页
3 磁控溅射法制氧传感器电解质薄膜第29-42页
    3.1 磁控溅射镀膜设备第29页
    3.2 溅射工艺流程的确定第29-30页
    3.3 基准工艺参数的确定第30-31页
        3.3.1 YSZ 电解质薄膜微观结构分析第31页
    3.4 基体致密度对磁控溅射 YSZ 电解质膜的影响第31-33页
    3.5 基体溅射温度对磁控溅射 YSZ 电解质膜的影响第33-37页
        3.5.1 改进磁控溅射工艺的YSZ 薄膜微观结构分析第33-34页
        3.5.2 改进磁控溅射工艺的YSZ 薄膜能谱分析第34-37页
    3.6 溅射气氛对磁控溅射YSZ 电解质膜的影响第37-42页
        3.6.1 二次优化磁控溅射工艺的 YSZ 薄膜微观结构分析第37-38页
        3.6.2 二次优化磁控溅射工艺的 YSZ 薄膜能谱分析第38-42页
结论第42-43页
参考文献第43-46页
致谢第46页

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