摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4页 |
引言 | 第7-8页 |
1 文献综述 | 第8-21页 |
1.1 汽车用氧传感器的应用 | 第8页 |
1.2 汽车用氧传感器的分类 | 第8-13页 |
1.2.1 氧浓差电池型氧传感器 | 第8-10页 |
1.2.2 氧化物半导体型氧传感器 | 第10页 |
1.2.3 极限电流型氧传感器 | 第10-13页 |
1.3 固体电解质材料 | 第13-15页 |
1.3.1 ZrO_2基固体电解质 | 第13-14页 |
1.3.2 CeO_2基固体电解质 | 第14-15页 |
1.4 固体电子-氧离子混合导体 | 第15-17页 |
1.4.1 钙钛矿型氧化物混合导体导电机理 | 第16页 |
1.4.2 透氧机理 | 第16-17页 |
1.5 磁控溅射沉积制备工艺 | 第17-21页 |
1.5.1 磁控溅射的基本原理及特点 | 第17-18页 |
1.5.2 磁控溅射法制备薄膜的基本流程 | 第18-19页 |
1.5.3 影响薄膜属性的因素分析 | 第19-21页 |
2 LSM 致密扩散障碍层与 LSCF 多孔基体的制备 | 第21-29页 |
2.1 实验原料及仪器设备 | 第21页 |
2.2 配料计算 | 第21-22页 |
2.3 LSM 致密扩散障碍层制备 | 第22-26页 |
2.3.1 LSM 致密扩散障碍层粉体的物相分析 | 第24页 |
2.3.2 LSM 致密扩散障碍层的制备与微观形貌 | 第24-26页 |
2.4 LSCF 多孔基体制备 | 第26-29页 |
2.4.1 LSCF 粉体的物相分析 | 第27-28页 |
2.4.2 LSCF 多孔基体的制备与微观形貌 | 第28-29页 |
3 磁控溅射法制氧传感器电解质薄膜 | 第29-42页 |
3.1 磁控溅射镀膜设备 | 第29页 |
3.2 溅射工艺流程的确定 | 第29-30页 |
3.3 基准工艺参数的确定 | 第30-31页 |
3.3.1 YSZ 电解质薄膜微观结构分析 | 第31页 |
3.4 基体致密度对磁控溅射 YSZ 电解质膜的影响 | 第31-33页 |
3.5 基体溅射温度对磁控溅射 YSZ 电解质膜的影响 | 第33-37页 |
3.5.1 改进磁控溅射工艺的YSZ 薄膜微观结构分析 | 第33-34页 |
3.5.2 改进磁控溅射工艺的YSZ 薄膜能谱分析 | 第34-37页 |
3.6 溅射气氛对磁控溅射YSZ 电解质膜的影响 | 第37-42页 |
3.6.1 二次优化磁控溅射工艺的 YSZ 薄膜微观结构分析 | 第37-38页 |
3.6.2 二次优化磁控溅射工艺的 YSZ 薄膜能谱分析 | 第38-42页 |
结论 | 第42-43页 |
参考文献 | 第43-46页 |
致谢 | 第46页 |