| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-31页 |
| 1.1 等离子体介绍 | 第10-12页 |
| 1.1.1 等离子体的定义 | 第10页 |
| 1.1.2 等离子体的特性 | 第10-12页 |
| 1.1.3 等离子体判据 | 第12页 |
| 1.2 几种常见的等离子体源 | 第12-16页 |
| 1.2.1 微波等离子体源 | 第12-13页 |
| 1.2.2 射频等离子体源 | 第13-14页 |
| 1.2.3 直流等离子体源 | 第14-16页 |
| 1.3 线形等离子体源 | 第16-24页 |
| 1.3.1 无磁场线形等离子体源 | 第16-19页 |
| 1.3.2 磁场束缚线形等离子体源 | 第19-24页 |
| 1.4 线形等离子体源的应用 | 第24-27页 |
| 1.4.1 线形同轴耦合式微波等离子体沉积金刚石膜 | 第24-25页 |
| 1.4.2 线形同轴耦合式微波等离子体沉积硅膜 | 第25-26页 |
| 1.4.3 线形同轴耦合式微波氧等离子体刻蚀 | 第26-27页 |
| 1.4.4 线形同轴耦合式微波等离子体对有毒气体的处理 | 第27页 |
| 1.5 异形基底上CVD金刚石膜研究进展 | 第27-29页 |
| 1.6 本研究工作的目的、意义 | 第29-31页 |
| 第二章 线形微波等离子体CVD装置的研制 | 第31-45页 |
| 2.1 装置整体设计 | 第31-32页 |
| 2.2 真空系统设计和组装 | 第32-33页 |
| 2.3 反应腔的设计 | 第33-36页 |
| 2.4 微波源电路的设计和组装 | 第36-37页 |
| 2.5 微波传输系统设计 | 第37-43页 |
| 2.6 保护系统 | 第43-44页 |
| 2.7 本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 线形微波等离子体在氧化铍夹持杆表面沉积金刚石薄膜的实验 | 第45-60页 |
| 3.1 引言 | 第45-47页 |
| 3.2 实验方法与实验参数 | 第47-49页 |
| 3.3 表面预处理对氧化铍表面沉积金刚石薄膜的影响 | 第49-54页 |
| 3.3.1 未经表面预处理氧化铍沉积金刚石薄膜 | 第49-50页 |
| 3.3.2 金刚石粉研磨抛光对氧化铍表面沉积金刚石膜的影响 | 第50-52页 |
| 3.3.3 砂纸研磨对氧化铍表面沉积金刚石膜的影响 | 第52-54页 |
| 3.4 氧化铍表面金刚石薄膜的生长过程及组分分析 | 第54-56页 |
| 3.5 球形金刚石薄膜生长机理分析 | 第56-57页 |
| 3.6 金刚石薄膜生长工艺的改进 | 第57-59页 |
| 3.7 本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 论文总结与展望 | 第60-62页 |
| 4.1 论文总结 | 第60-61页 |
| 4.2 展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
