| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 引言 | 第11-27页 |
| 1.1 超导材料简介 | 第11-14页 |
| 1.1.1 零电阻态的发现 | 第11页 |
| 1.1.2 超导材料的理论发展 | 第11-13页 |
| 1.1.3 超导材料的种类及应用 | 第13-14页 |
| 1.2 铌金属超导薄膜 | 第14-16页 |
| 1.2.1 金属铌和铌薄膜的基本性质 | 第14-15页 |
| 1.2.2 铌金属超导薄膜的应用 | 第15-16页 |
| 1.3 铌金属超导薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.3.1 溅射镀膜法 | 第16-17页 |
| 1.3.2 阴极电弧沉积法 | 第17页 |
| 1.3.3 电子束蒸发法 | 第17-18页 |
| 1.3.4 脉冲激光沉积法 | 第18页 |
| 1.4 薄膜表征方法 | 第18-22页 |
| 1.4.1 X射线衍射仪 | 第18-19页 |
| 1.4.2 扫描电子显微镜 | 第19-20页 |
| 1.4.3 原子力显微镜 | 第20-21页 |
| 1.4.4 高分辨X射线光电子能谱 | 第21-22页 |
| 1.4.5 综合物性测量系统 | 第22页 |
| 1.5 脉冲激光沉积制备铌金属超导薄膜的研究进展 | 第22-24页 |
| 1.6 本论文工作的意义及主要内容 | 第24-27页 |
| 2 脉冲激光沉积技术优化及改进 | 第27-42页 |
| 2.1 脉冲激光沉积技术 | 第27-29页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积基本原理 | 第27-29页 |
| 2.1.2 脉冲激光沉积技术主要优点 | 第29页 |
| 2.2 单光束脉冲激光沉积技术存在问题及改进 | 第29-34页 |
| 2.2.1 激光器的分析与选择 | 第30-31页 |
| 2.2.2 激光入射角的分析与选择 | 第31页 |
| 2.2.3 靶材表面光斑大小及能量密度的计算分析 | 第31-32页 |
| 2.2.4 单光束脉冲激光沉积技术光路设计及分析 | 第32-33页 |
| 2.2.5 单光束脉冲激光沉积技术光路改进设计及分析 | 第33-34页 |
| 2.3 双光束脉冲激光沉积技术光路设计 | 第34-35页 |
| 2.4 脉冲激光沉积技术设备组装 | 第35-40页 |
| 2.4.1 工艺腔室设计 | 第36-37页 |
| 2.4.2 衬底模块与温控系统设计 | 第37-38页 |
| 2.4.3 靶材模块 | 第38页 |
| 2.4.4 真空系统设计 | 第38-39页 |
| 2.4.5 气路系统设计 | 第39-40页 |
| 2.4.6 软件界面设计 | 第40页 |
| 2.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 3 脉冲激光沉积对铌金属超导薄膜制备及特性研究 | 第42-58页 |
| 3.1 试剂与仪器设备 | 第42页 |
| 3.2 脉冲激光沉积技术制备铌金属超导薄膜的工艺流程 | 第42页 |
| 3.3 脉冲激光沉积技术对铌金属超导薄膜的制备及性能表征 | 第42-56页 |
| 3.3.1 激光器能量对铌薄膜的晶体结构及表面形貌研究 | 第42-46页 |
| 3.3.2 衬底温度对铌薄膜的晶体结构及表面形貌研究 | 第46-50页 |
| 3.3.3 靶基间距对铌薄膜的晶体结构及表面形貌研究 | 第50-53页 |
| 3.3.4 铌金属超导薄膜的化学组分表征分析 | 第53-55页 |
| 3.3.5 铌金属超导薄膜的电学性能表征分析 | 第55-56页 |
| 3.4 铌金属超导薄膜的器件探索 | 第56-57页 |
| 3.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 4 结论与展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第62-64页 |
| 学位论文数据集 | 第64页 |
