| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 低辐射玻璃简介 | 第10-16页 |
| 1.2.1 低辐射玻璃的节能原理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 低辐射玻璃的发展历程 | 第11-15页 |
| 1.2.3 低辐射玻璃的结构组成 | 第15-16页 |
| 1.3 低辐射薄膜材料分类 | 第16-18页 |
| 1.3.1 功能膜层材料 | 第16页 |
| 1.3.2 氧化物介质层材料 | 第16-17页 |
| 1.3.3 氮化物介质层材料 | 第17页 |
| 1.3.4 氮氧化物介质层材料 | 第17-18页 |
| 1.4 低辐射玻璃的研究现状 | 第18-19页 |
| 1.5 研究目的与意义 | 第19-23页 |
| 1.5.1 研究的应用价值 | 第19-20页 |
| 1.5.2 研究的学术意义 | 第20-23页 |
| 1.6 研究内容与创新点 | 第23-25页 |
| 1.6.1 研究内容 | 第23页 |
| 1.6.2 创新点 | 第23-25页 |
| 2 材料及实验方法 | 第25-29页 |
| 2.1 实验材料与试剂 | 第25页 |
| 2.2 实验设备 | 第25-26页 |
| 2.3 低辐射薄膜制备 | 第26-27页 |
| 2.3.1 基片前处理 | 第26页 |
| 2.3.2 薄膜的制备流程 | 第26-27页 |
| 2.4 材料表征 | 第27-29页 |
| 3 Si_(1-x)Al_xN/Ag/Ta 低辐射薄膜制备及性能研究 | 第29-57页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 实验 | 第29-34页 |
| 3.2.1 Si_(1-x)Al_xN/Ag/Ta 低辐射薄膜的制备 | 第29-33页 |
| 3.2.2 表征及分析测试 | 第33-34页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第34-56页 |
| 3.3.1 单层银膜性能 | 第34-35页 |
| 3.3.2 种子层 Ta 对银膜的影响 | 第35-45页 |
| 3.3.3 氮化铝硅薄膜的制备及性能研究 | 第45-52页 |
| 3.3.4 Si_(1-x)Al_xN/Ag/Ta/glass 低辐射膜的性能 | 第52-56页 |
| 3.4 小结 | 第56-57页 |
| 4 结论与展望 | 第57-59页 |
| 4.1 结论 | 第57页 |
| 4.2 展望 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 附录 | 第66页 |
| A. 研究生期间发表的论文 | 第66页 |
| B. 研究生期间申请的专利 | 第66页 |
