摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 铁电材料 | 第10-14页 |
1.1.1 铁电性的基本概念 | 第10页 |
1.1.2 铁电体的分类 | 第10-11页 |
1.1.3 铁电体的概况 | 第11页 |
1.1.4 铁电体的基本性质 | 第11-12页 |
1.1.5 分子铁电 | 第12页 |
1.1.6 铁电聚合物PVDF和P(VDF-TrFE) | 第12-13页 |
1.1.7 铁电薄膜 | 第13-14页 |
1.2 二维层状材料 | 第14-17页 |
1.2.1 石墨烯 | 第14-16页 |
1.2.2 二硫化铝(MoS_2) | 第16-17页 |
1.3 分子铁电材料与二维层状材料的杂化器件研究 | 第17-19页 |
第二章 实验材料与仪器 | 第19-23页 |
2.1 实验材料与试剂 | 第19-20页 |
2.1.1 实验材料 | 第19页 |
2.1.2 实验试剂 | 第19-20页 |
2.2 实验仪器与原理 | 第20-23页 |
2.2.1 实验仪器 | 第20页 |
2.2.2 仪器原理 | 第20-23页 |
第三章 分子铁电薄膜的制备与表征 | 第23-33页 |
3.1 引言 | 第23页 |
3.2 铁电薄膜的制备 | 第23-28页 |
3.2.1 分子铁电晶体的生长 | 第23页 |
3.2.2 分子铁电薄膜的制备 | 第23-27页 |
3.2.3 铁电聚合物P(VDF-TrFE)薄膜的制备 | 第27-28页 |
3.3 铁电薄膜的表征与测量 | 第28-33页 |
3.3.1 分子铁电薄膜的的表征与测量 | 第28-32页 |
3.3.2 铁电聚合物P(VDF-TrFE)薄膜的表征与测量 | 第32-33页 |
第四章 二维材料的制备与表征 | 第33-42页 |
4.1 引言 | 第33页 |
4.2 二维材料的制备 | 第33-36页 |
4.2.1 石墨烯的制备 | 第33-36页 |
4.2.2 单层二硫化钼(MoS_2)的制备 | 第36页 |
4.3 二维材料的表征 | 第36-42页 |
4.3.1 石墨烯的表征 | 第36-39页 |
4.3.2 单层二硫化钼(MoS_2)的表征 | 第39-42页 |
第五章 分子铁电薄膜器件及二维材料的初步探究 | 第42-53页 |
5.1 引言 | 第42页 |
5.2 器件的制备 | 第42-45页 |
5.2.1 石墨烯器件的制备 | 第43页 |
5.2.2 高氯酸咪唑薄膜在石墨烯器件上的制备 | 第43-44页 |
5.2.3 三乙烯二胺·高铼酸薄膜在石墨烯器件上的制备 | 第44页 |
5.2.4 铁电聚合物P(VDF-TrFE)薄膜在石墨烯器件上的制备 | 第44页 |
5.2.5 二硫化钼(MoS_2)器件的制备 | 第44页 |
5.2.6 铁电聚合物P(VDF-TrFE)薄膜在二硫化钼(MoS_2)器件上的制备 | 第44-45页 |
5.3 器件的表征 | 第45-53页 |
5.3.1 石墨烯器件的表征以及高氯酸咪唑薄膜对石墨烯器件的影响 | 第45-47页 |
5.3.2 三乙烯二胺·高铼酸薄膜对石墨烯器件的影响 | 第47-48页 |
5.3.3 铁电聚合物P(VDF-TrFE)薄膜对石墨烯器件的影响 | 第48-51页 |
5.3.4 铁电聚合物P(VDF-TrFE)薄膜对二硫化钼(MoS_2)器件的影响 | 第51-53页 |
第六章 总结与展望 | 第53-54页 |
致谢 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-56页 |