| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 半导体光电催化制氢技术 | 第11-15页 |
| 1.2.1 基本原理 | 第11-13页 |
| 1.2.2 影响半导体光电催化制氢效率的因素 | 第13-14页 |
| 1.2.3 半导体光电催化制氢研究现状 | 第14-15页 |
| 1.3 TiO_2纳米阵列 | 第15-19页 |
| 1.3.1 纳米结构阵列 | 第15-16页 |
| 1.3.2 TiO_2的基本结构及性质 | 第16-17页 |
| 1.3.3 TiO_2纳米阵列的改性研究 | 第17-18页 |
| 1.3.4 TiO_2纳米阵列的应用 | 第18-19页 |
| 1.4 二维过渡金属硫化物 | 第19-23页 |
| 1.4.1 基本晶体结构 | 第19-20页 |
| 1.4.2 合成方法概述 | 第20-21页 |
| 1.4.3 催化水解领域的应用 | 第21-23页 |
| 1.5 本论文的研究内容及意义 | 第23-24页 |
| 第2章 TiO_2NAs/WS_2的制备及光电催化制氢性能研究 | 第24-44页 |
| 2.1 引言 | 第24-25页 |
| 2.2 主要化学试剂、仪器设备以及表征手段 | 第25-27页 |
| 2.2.1 化学试剂 | 第25页 |
| 2.2.2 实验仪器设备 | 第25-26页 |
| 2.2.3 样品表征 | 第26-27页 |
| 2.2.4 光电化学性能测试 | 第27页 |
| 2.3 WS_2纳米片的制备与表征 | 第27-32页 |
| 2.3.1 WS_2纳米片的制备 | 第27页 |
| 2.3.2 WS_2纳米片的表征 | 第27-32页 |
| 2.4 TiO_2NAs/WS_2的制备与表征 | 第32-38页 |
| 2.4.1 TiO_2NAs/WS_2的制备 | 第32-33页 |
| 2.4.2 TiO_2NAs/WS_2的表征 | 第33-38页 |
| 2.5 光电化学性能研究 | 第38-43页 |
| 2.5.1 LSV测试及光电化学制氢效率计算 | 第38-39页 |
| 2.5.2 I-T测试 | 第39-40页 |
| 2.5.3 EIS测试 | 第40-41页 |
| 2.5.4 稳定性测试 | 第41页 |
| 2.5.5 WS_2负载量对体系光电化学性能的影响 | 第41-42页 |
| 2.5.6 机理分析 | 第42-43页 |
| 2.6 本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 TiO_2NAs/MoS_2的制备及光电催化制氢性能研究 | 第44-66页 |
| 3.1 引言 | 第44-45页 |
| 3.2 实验部分 | 第45-48页 |
| 3.2.1 化学试剂 | 第45页 |
| 3.2.2 实验仪器设备 | 第45-46页 |
| 3.2.3 样品制备 | 第46-47页 |
| 3.2.4 表征手段 | 第47页 |
| 3.2.5 光电化学性能测试 | 第47-48页 |
| 3.3 不同相态MoS_2的表征 | 第48-51页 |
| 3.3.1 TEM分析 | 第48-49页 |
| 3.3.2 UV-vis分析 | 第49页 |
| 3.3.3 Raman分析 | 第49-50页 |
| 3.3.4 XPS分析 | 第50-51页 |
| 3.4 TiO_2NAs/MoS_2复合物的表征 | 第51-56页 |
| 3.4.1 物相与形貌 | 第51-53页 |
| 3.4.2 Raman分析 | 第53-54页 |
| 3.4.3 XPS分析 | 第54-56页 |
| 3.4.4 UV–vis分析 | 第56页 |
| 3.5 光电化学性能研究 | 第56-62页 |
| 3.5.1 MoS_2相态对体系光电化学性能的影响 | 第57-60页 |
| 3.5.2 MoS_2负载量对体系光电化学性能的影响 | 第60-61页 |
| 3.5.3 稳定性测试 | 第61-62页 |
| 3.6 机理分析 | 第62-65页 |
| 3.6.1 Mott-Schottky法绘制能级结构图 | 第62-64页 |
| 3.6.2 机理解释 | 第64-65页 |
| 3.7 本章小结 | 第65-66页 |
| 第4章 结论与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-76页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
