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基于低共熔溶剂对金属铜腐蚀行为的研究

摘要第2-4页
Abstract第4-5页
第1章 绪论第8-27页
    1.1 引言第8-9页
    1.2 国内外废印刷电路板中铜回收的研究现状第9-13页
        1.2.1 物理机械法第9页
        1.2.2 热处理法第9-10页
        1.2.3 生物冶金法第10-11页
        1.2.4 湿法冶金技术第11-13页
    1.3 低共熔溶剂第13-25页
        1.3.1 低共熔溶剂定义与分类第13-15页
        1.3.2 制备第15-18页
        1.3.3 理化性质第18-22页
        1.3.4 应用第22-25页
    1.4 本课题研究的目的和主要内容第25-27页
        1.4.1 本课题研究的目的第25-26页
        1.4.2 本课题研究的主要内容第26-27页
第2章 低共熔溶剂中铜离子电化学行为的研究第27-37页
    2.1 引言第27页
    2.2 实验部分第27-28页
        2.2.1 实验试剂和仪器第27-28页
        2.2.2 实验研究方法和控制条件第28页
    2.3 动力学参数的估算第28-30页
        2.3.1 Cu(Ⅰ)离子和Cu(Ⅱ)离子扩散系数的估算第28-29页
        2.3.2 Cu(Ⅰ)/Cu(Ⅱ)电对电极反应速率常数的估算第29-30页
    2.4 结果与讨论第30-35页
        2.4.1 铜离子在低共熔溶剂中的电化学行为第30-32页
        2.4.2 铜离子在低共熔溶剂中的扩散系数及电极反应速率常数第32-35页
    2.5 本章小结第35-37页
第3章 ethaline-水中Cu(Ⅱ)/Cu(0)的反歧化反应动力学研究第37-54页
    3.1 引言第37页
    3.2 实验部分第37-38页
        3.2.1 实验试剂与仪器第37页
        3.2.2 实验研究方法和控制条件第37-38页
    3.3 结果与讨论第38-53页
        3.3.1 Cu(Ⅰ)在Ethaline-水混合溶液中的稳定性第38-41页
        3.3.2 Cu(Ⅱ)在ethaline-水混合溶液中的扩散系数及存在形式第41-45页
        3.3.3 Cu(Ⅱ)/Cu(0)反歧化反应在1ChCl:2EG-水混合体系中的反应动力学研究第45-53页
    3.4 本章小结第53-54页
第4章 铜在三种低共熔溶剂中腐蚀行为的研究第54-64页
    4.1 引言第54页
    4.2 实验部分第54-56页
        4.2.1 实验试剂和仪器第54-55页
        4.2.2 腐蚀实验第55页
        4.2.3 金属铜与氯化铜反应机理第55-56页
    4.3 结果与讨论第56-62页
        4.3.1 铜离子浓度对金属铜腐蚀速率的影响第56-57页
        4.3.2 水含量对金属铜腐蚀速率的影响第57-60页
        4.3.3 温度对金属铜腐蚀速率的影响第60-62页
    4.4 本章小结第62-64页
参考文献第64-72页
攻读硕士期间科研成果第72-73页
致谢第73-74页

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