Cu/Ag掺杂氧化锌纳米材料的制备与高压物性研究
内容提要 | 第4-5页 |
摘要 | 第5-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第14-32页 |
1.1 纳米科学与纳米材料 | 第14-17页 |
1.1.1 纳米科学与材料的发展 | 第14页 |
1.1.2 纳米材料的基本特性 | 第14-15页 |
1.1.3 纳米材料的分类及制备 | 第15-17页 |
1.2 稀磁半导体 | 第17-25页 |
1.2.1 稀磁半导体的概念 | 第17-18页 |
1.2.2 稀磁半导体的性质及制备方法 | 第18-19页 |
1.2.3 稀磁半导体的研究进展 | 第19-21页 |
1.2.4 稀磁半导体中磁性的理论解释 | 第21-25页 |
1.3 氧化锌基稀磁半导体 | 第25-29页 |
1.3.1 氧化锌的结构及基本特性 | 第25-27页 |
1.3.2 氧化锌基稀磁半导体的研究现状 | 第27-29页 |
1.4 本论文的研究目的和意义 | 第29-31页 |
1.5 论文各部分的主要内容 | 第31-32页 |
第二章 ZnO:Cu 纳米结构的制备及性能研究 | 第32-58页 |
2.1 ZnO:Cu 纳米粉体的制备及性能研究 | 第32-41页 |
2.1.1 实验过程及原理 | 第32-33页 |
2.1.2 样品组分及形貌分析 | 第33-34页 |
2.1.3 样品的X 射线物相分析 | 第34-36页 |
2.1.4 样品的 X 射线光电子能谱分析 | 第36-38页 |
2.1.5 样品的拉曼光谱分析 | 第38-40页 |
2.1.6 样品的磁学性质研究 | 第40-41页 |
2.2 ZnO:Cu 纳米棒的制备及性能研究 | 第41-49页 |
2.2.1 实验过程及原理 | 第41页 |
2.2.2 样品的X 射线物相分析 | 第41-42页 |
2.2.3 样品组分及形貌分析 | 第42-44页 |
2.2.4 生长机制分析 | 第44-45页 |
2.2.5 样品的光学和磁学性质分析 | 第45-49页 |
2.3 ZnO:Cu 纳米花的制备及性能研究 | 第49-57页 |
2.3.1 实验过程及原理 | 第49页 |
2.3.2 样品的X 射线物相分析 | 第49-50页 |
2.3.3 形貌组分及结构分析 | 第50-53页 |
2.3.4 生长机制分析 | 第53页 |
2.3.5 样品的光学和磁学性质分析 | 第53-57页 |
2.4 本章小结 | 第57-58页 |
第三章 ZnO:Ag 纳米结构的制备及性能研究 | 第58-72页 |
3.1 ZnO:Ag 纳米粉体的制备及性能研究 | 第58-61页 |
3.1.1 实验过程及原理 | 第58页 |
3.1.2 样品组分及形貌分析 | 第58-60页 |
3.1.3 样品的X 射线物相分析 | 第60页 |
3.1.4 样品的紫外-可见吸收光谱分析 | 第60-61页 |
3.2 ZnO:Ag 纳米花的制备及性能研究 | 第61-69页 |
3.2.1 实验过程及原理 | 第61-63页 |
3.2.2 样品的X 射线物相分析 | 第63页 |
3.2.3 样品组分及形貌分析 | 第63-65页 |
3.2.4 样品的 X 射线光电子能谱分析 | 第65-67页 |
3.2.5 样品的紫外-可见吸收光谱分析 | 第67-68页 |
3.2.6 样品的光致发光光谱分析 | 第68-69页 |
3.3 本章小结 | 第69-72页 |
第四章 ZnO:Cu 的高压结构研究 | 第72-90页 |
4.1 高压实验装置及实验技术 | 第72-74页 |
4.2 氧化锌基稀磁半导体的高压研究进展 | 第74-77页 |
4.3 ZnO:Cu 纳米颗粒的高压结构研究 | 第77-82页 |
4.3.1 样品的制备 | 第77页 |
4.3.2 高压实验方法 | 第77-78页 |
4.3.3 高压X 射线衍射谱实验结果与分析 | 第78-82页 |
4.4 ZnO:Cu 固溶体的高压结构研究 | 第82-87页 |
4.4.1 样品的制备 | 第82页 |
4.4.2 高压实验方法 | 第82-83页 |
4.4.3 高压X 射线衍射谱实验结果与分析 | 第83-87页 |
4.5 本章小结 | 第87-90页 |
第五章 结论 | 第90-92页 |
参考文献 | 第92-104页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第104-108页 |
作者简介 | 第108-110页 |
致谢 | 第110-111页 |