| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 太阳能光伏电池发展背景及前景 | 第8-9页 |
| 1.2 晶体硅异质结太阳电池 | 第9-10页 |
| 1.2.1 晶体硅异质结太阳电池典型结构 | 第9-10页 |
| 1.2.2 晶体硅异质结太阳电池优势 | 第10页 |
| 1.3 晶体硅异质结太阳电池一般制作过程 | 第10-11页 |
| 1.4 晶体硅异质结太阳电池薄膜层结构与光学特性国内外研究现状 | 第11-16页 |
| 1.4.1 N型单晶硅片绒面结构研究进展 | 第13页 |
| 1.4.2 氢化非晶硅薄膜研究现状 | 第13-15页 |
| 1.4.3 晶硅异质结中透明导电膜的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.5 本论文的研究目的和主要内容 | 第16-18页 |
| 第2章 N型单晶硅片表面制绒与光学性能研究 | 第18-27页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 实验方法 | 第18-19页 |
| 2.2.1 实验原理 | 第18-19页 |
| 2.2.2 实验材料及测试 | 第19页 |
| 2.2.3 实验步骤 | 第19页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第19-25页 |
| 2.3.1 N型单晶硅片损伤层去除 | 第19-20页 |
| 2.3.2 制绒工艺参数对绒面的影响 | 第20-23页 |
| 2.3.3 硅片制绒对a-Si:H钝化效果的影响 | 第23-24页 |
| 2.3.4 不同硅片表面结构太阳电池量子效率分析 | 第24-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-27页 |
| 第3章 N型单晶硅片表面氢化非晶硅薄膜制备与光学性能研究 | 第27-40页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 实验方法 | 第27-29页 |
| 3.2.1 实验原理 | 第27-28页 |
| 3.2.2 实验材料及测试 | 第28-29页 |
| 3.2.3 实验步骤 | 第29页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第29-39页 |
| 3.3.1 本征氢化非晶硅层制备及光学性能研究 | 第29-32页 |
| 3.3.2 p型氢化非晶硅层制备及光学性能研究 | 第32-36页 |
| 3.3.3 n型氢化非晶硅层制备及i-n叠层光学性能研究 | 第36-38页 |
| 3.3.4 单面电池与双面电池器件结构量子效率分析 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 晶体硅异质结太阳电池表面ITO薄膜制备与光学性能研究 | 第40-49页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 实验方法 | 第40-41页 |
| 4.2.1 实验原理 | 第40页 |
| 4.2.2 实验材料及测试 | 第40-41页 |
| 4.2.3 实验步骤 | 第41页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第41-48页 |
| 4.3.1 晶体硅异质结太阳电池表面ITO薄膜的制备研究 | 第41-42页 |
| 4.3.2 晶体硅异质结太阳电池表面ITO薄膜光学性能研究 | 第42-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 总结 | 第49-51页 |
| 5.1 主要的研究结论 | 第49-50页 |
| 5.2 本课题的创新之处 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第57页 |
