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还原—分步沉淀处理电镀废水工艺研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第1章 绪论第9-21页
    1.1 电镀工艺介绍第9-10页
        1.1.1 电镀原理第9-10页
        1.1.2 电镀液的组成第10页
        1.1.3 电镀工艺流程第10页
    1.2 电镀废水的来源和危害第10-12页
        1.2.1 电镀废水来源第10页
        1.2.2 电镀废水的危害第10-12页
    1.3 电镀废水处理方法第12-19页
        1.3.1 物理法第12-13页
        1.3.2 化学法第13-17页
        1.3.3 生物法第17页
        1.3.4 生物化学法第17页
        1.3.5 物理化学法第17-19页
    1.4 电镀废水处现状第19页
    1.5 研究的意义和内容第19-21页
        1.5.1 课题研究意义第19-20页
        1.5.2 课题研究的内容第20-21页
第2章 综合电镀废水金属离子含量实验研究第21-27页
    2.1 废水的来源及组成第21页
        2.1.1 废水的来源第21页
        2.1.2 废水的组成第21页
    2.2 废水中主要金属离子含量的实验研究第21-26页
        2.2.1 主要药品与仪器第21-22页
        2.2.2 铬(Ⅵ)含量实验研究第22-23页
        2.2.3 镍(Ⅱ)含量实验研究第23-25页
        2.2.4 铜(Ⅱ)含量实验研究第25-26页
    2.3 本章小结第26-27页
第3章 草酸还原六价铬工艺条件研究第27-32页
    3.1 概述第27-28页
        3.1.1 草酸的性质和用途第27页
        3.1.2 草酸还原六价铬的基本原理第27-28页
    3.2 主要药品与仪器第28-29页
    3.3 单因素实验第29-31页
        3.3.1 实验过程第29页
        3.3.2 实验结果与讨论第29-31页
    3.4 本章小结第31-32页
第4章 氢氧化钠分步沉淀废水中的铬镍铜实验研究第32-37页
    4.1 基本原理第32-33页
        4.1.1 分步沉淀原理第32页
        4.1.2 氢氧化钠分步沉淀铬镍铜原理第32-33页
    4.2 主要试剂与仪器第33-34页
    4.3 氢氧化钠沉淀铬镍铜实验结果与讨论第34-36页
        4.3.1 沉淀实验过程第34-35页
        4.3.2 沉淀实验结果讨论第35-36页
        4.3.3 絮凝剂沉淀实验结果与讨论第36页
    4.4 本章小结第36-37页
第5章 氢氧化钠-硫化钠分步沉淀废水中的铬镍铜实验研究第37-43页
    5.1 沉淀原理第37-38页
        5.1.1 硫化钠分步沉淀铜镍原理第37-38页
        5.1.2 硫化钠在水溶液中的性质第38页
        5.1.3 沉淀pH大小与金属离子浓度的关系第38页
    5.2 仪器与试剂第38-40页
    5.3 沉淀实验结果与讨论第40-42页
        5.3.1 不同pH时硫化钠对铜镍沉淀效果第40-41页
        5.3.2 硫化钠不同加入量对铜沉淀效果实验第41页
        5.3.3 硫化钠不同加入量对镍沉淀效果第41-42页
        5.3.4 絮凝剂沉淀实验结果与讨论第42页
    5.4 本章小结第42-43页
第6章 综合废水处理工艺设计第43-47页
    6.1 综合废水处理工艺目标第43页
    6.2 综合废水处理工艺流程及说明第43-44页
        6.2.1 综合废水处理工艺流程图第43-44页
        6.2.2 工艺流程图说明第44页
    6.3 综合废水处理工艺参数设计第44-45页
        6.3.1 综合调节池第44页
        6.3.2 pH调节池第44-45页
        6.3.3 混凝反应池第45页
        6.3.4 沉降池第45页
    6.4 本章小结第45-47页
结论第47-49页
参考文献第49-52页
致谢第52页

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