低气压射频感性耦合CF4和CHF3放电的流体模拟研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 等离子体简介以及应用 | 第9-10页 |
| 1.2 ICP研究进展 | 第10-12页 |
| 1.3 ICP的装置设置及基本性质 | 第12-13页 |
| 1.4 等离子体的模拟研究 | 第13-15页 |
| 1.4.1 等离子体仿真概述 | 第13-14页 |
| 1.4.2 相关商用的仿真软件 | 第14-15页 |
| 1.5 本文的内容与安排 | 第15-16页 |
| 2 ICP的流体力学模拟 | 第16-27页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 流体力学模型介绍 | 第16-18页 |
| 2.3 电磁模型及边界条件处理 | 第18-21页 |
| 2.3.1 电磁模型 | 第18-19页 |
| 2.3.2 边界条件 | 第19-21页 |
| 2.4 数值算法 | 第21-23页 |
| 2.5 反应系数处理 | 第23-26页 |
| 2.6 本章小结 | 第26-27页 |
| 3 感性耦合CF_4的流体模拟 | 第27-41页 |
| 3.1 引言 | 第27-28页 |
| 3.2 模型介绍 | 第28-30页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第30-40页 |
| 3.3.1 CF_4气体放电特性 | 第30-32页 |
| 3.3.2 功率对CF_4放电的影响 | 第32-35页 |
| 3.3.3 气压对CF_4放电的影响 | 第35-37页 |
| 3.3.4 CF_2和F随放电条件的变化 | 第37-38页 |
| 3.3.5 CF_4的电负性随放电条件的变化 | 第38-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 感性祸合CHF_3的流体模拟 | 第41-53页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 模型介绍及结果与讨论 | 第41-52页 |
| 4.2.1 CHF_3气体放电特性 | 第43-45页 |
| 4.2.2 功率对CHF_3放电的影响 | 第45-47页 |
| 4.2.3 气压对CHF_3放电的影响 | 第47-49页 |
| 4.2.4 CF_2、F和HF随放电条件的变化 | 第49-51页 |
| 4.2.5 CHF_3的电负性随放电条件的变化 | 第51-52页 |
| 4.3 本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
