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偏压对磁控溅射制备AlMgB薄膜的影响

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-19页
    1.1 研究的背景及意义第9页
    1.2 AlMgB_(14)的晶体结构第9-11页
    1.3 AlMgB_(14)的基本性质第11-13页
        1.3.1 AlMgB_(14)的力学性能第11-12页
        1.3.2 AlMgB(14)的热膨胀系数第12-13页
        1.3.3 AlMgB_(14)的电学性能第13页
        1.3.4 AlMgB_(14)的其他性质第13页
    1.4 AlMgB薄膜的研究现状第13-16页
    1.5 AlMgB薄膜的制备方法第16-17页
        1.5.1 脉冲激光沉积法(PLD)第16-17页
        1.5.2 磁控溅射法第17页
    1.6 本论文的选题和主要的研究内容第17-19页
2 磁控溅射系统制备AlMgB薄膜的制备工艺及表征方法第19-27页
    2.1 JPG450型高真空三靶磁控溅射系统简介第19-21页
    2.2 AlMgB薄膜的制备工艺第21-23页
        2.2.1 基片的选择与处理第21页
        2.2.2 AlMgB薄膜的具体制备过程第21-23页
    2.3 AlMgB薄膜的测试表征方法第23-27页
        2.3.1 厚度表征第23页
        2.3.2 形貌表征第23-24页
        2.3.3 结构表征第24-25页
        2.3.4 力学性能表征第25-27页
3 脉冲偏压对AlMgB薄膜的影响第27-40页
    3.1 脉冲负偏压电压对AlMgB薄膜的影响第27-34页
        3.1.1 脉冲负偏压电压对AlMgB薄膜厚度的影响第27-29页
        3.1.2 脉冲负偏压电压对AlMgB薄膜形貌的影响第29-31页
        3.1.3 脉冲负偏压电压对AlMgB薄膜结构的影响第31-32页
        3.1.4 脉冲负偏压电压对AlMgB薄膜力学性能的影响第32-34页
    3.2 偏压占空比对AlMgB薄膜的影响第34-39页
        3.2.1 偏压占空比对AlMgB薄膜表面形貌的影响第34-35页
        3.2.2 偏压占空比对薄膜结构的影响第35-37页
        3.2.3 偏压占空比对AlMgB薄膜力学性能的影响第37-39页
    3.3 本章小结第39-40页
4 直流叠加脉冲偏压对AlMgB薄膜的影响第40-50页
    4.1 结果与分析第42-49页
        4.1.1 直流叠加脉冲偏压对AlMgB薄膜沉积速率的影响第42-43页
        4.1.2 直流叠加脉冲偏压对AlMgB薄膜形貌的影响第43-46页
        4.1.3 直流叠加脉冲偏压对AlMgB薄膜结构的影响第46-48页
        4.1.4 直流叠加脉冲偏压对AlMgB薄膜力学性能的影响第48-49页
    4.2 本章小结第49-50页
结论第50-51页
参考文献第51-54页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第54-55页
致谢第55-56页

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