摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-30页 |
1.1 层状微纳结构及其测量方法概述 | 第10-14页 |
1.1.1 层状微纳结构概述 | 第10-11页 |
1.1.2 层状微纳结构测量方法 | 第11-14页 |
1.2 反射差分光学信号的物理机理 | 第14-16页 |
1.2.1 反射差分信号 | 第14-16页 |
1.2.2 反射差分信号的层状模型 | 第16页 |
1.3 反射差分测量技术的发展 | 第16-26页 |
1.3.1 反射差分信号的偏振调制 | 第16-19页 |
1.3.2 快速反射差分光谱仪 | 第19-21页 |
1.3.3 反射差分显微镜 | 第21-24页 |
1.3.4 反射差分测量仪器和其它测量仪器的结合 | 第24-25页 |
1.3.5 反射差分测量技术的应用 | 第25-26页 |
1.4 课题研究背景与论文主要内容 | 第26-30页 |
第2章 层状微纳结构的反射差分光学测量理论 | 第30-52页 |
2.1 层状微纳结构多层数学模型 | 第30-43页 |
2.1.1 麦克斯韦方程及边界条件 | 第30-32页 |
2.1.2 有效介质近似理论 | 第32-33页 |
2.1.3 反射差分信号的多层模型 | 第33-37页 |
2.1.4 层状微纳结构轮廓位置的多层模型 | 第37-43页 |
2.2 层状微纳结构几何参数对反射差分信号的影响 | 第43-48页 |
2.2.1 层状微纳结构和测量光斑相对尺寸对反射差分信号的影响 | 第43-45页 |
2.2.2 层状微纳结构轮廓转折处的反射差分信号 | 第45-46页 |
2.2.3 层状微纳结构轮廓宽度对反射差分信号的影响 | 第46-48页 |
2.3 物镜数值孔径对反射差分信号的影响 | 第48-52页 |
第3章 显微式反射差分光谱仪设计 | 第52-74页 |
3.1 垂直入射式反射差分光谱仪 | 第52-66页 |
3.1.1 适用于显微成像的反射差分光学设计 | 第52-55页 |
3.1.2 数据采集与信号分析 | 第55-58页 |
3.1.3 仪器设计 | 第58-66页 |
3.2 显微式反射差分光谱仪 | 第66-74页 |
3.2.1 光学显微设计 | 第66-67页 |
3.2.2 数据采集与信号分析 | 第67-69页 |
3.2.3 仪器设计 | 第69-74页 |
第4章 仪器性能测试与分析 | 第74-96页 |
4.1 研究意义 | 第74页 |
4.2 液晶可变相位延迟器校正方法及其温度响应对测量的影响 | 第74-83页 |
4.2.1 测量原理和数学模型 | 第74-76页 |
4.2.2 液晶可变相位延迟器校正方法对测量的影响 | 第76-79页 |
4.2.3 NI-RDS中液晶可变相位延迟器光电特性校正方法 | 第79-83页 |
4.2.4 M-RDS中液晶可变相位延迟器光电特性校正方法 | 第83页 |
4.3 液晶可变相位延迟器调制参数对测量噪声的影响。 | 第83-92页 |
4.3.1 测量噪声的传递函数 | 第83-84页 |
4.3.2 噪声传递函数的仿真 | 第84-86页 |
4.3.3 实验数据与分析 | 第86-88页 |
4.3.4 调制参数对NI-RDS信号噪声的影响 | 第88-92页 |
4.4 仪器性能验证 | 第92-96页 |
4.4.1 NI-RDS仪器性能测试 | 第92-93页 |
4.4.2 M-RDS仪器性能测试 | 第93-96页 |
第5章 实验应用与结果分析 | 第96-116页 |
5.1 样品和实验环境 | 第96-97页 |
5.1.1 样品 | 第96页 |
5.1.2 实验环境 | 第96-97页 |
5.2 半导体绝缘层层状微纳结构 | 第97-108页 |
5.2.1 100nm厚的绝缘层层状微纳结构 | 第98-103页 |
5.2.2 20nm厚绝缘层层状微纳结构 | 第103-108页 |
5.3 金属电极/半导体衬底层状微纳结构 | 第108-109页 |
5.4 有机半导体层状微纳结构 | 第109-116页 |
第6章 总结与展望 | 第116-120页 |
6.1 完成的主要工作 | 第116-117页 |
6.2 论文创新点 | 第117页 |
6.3 工作展望 | 第117-120页 |
参考文献 | 第120-128页 |
发表论文和科研情况说明 | 第128-130页 |
致谢 | 第130-131页 |