| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-19页 |
| 1.1 有机场效应晶体管简介 | 第8-9页 |
| 1.2 有机薄膜晶体管的应用 | 第9-11页 |
| 1.3 有机半导体材料 | 第11-16页 |
| 1.3.1 p 型半导体材料 | 第11-14页 |
| 1.3.2 n 型半导体材料 | 第14-16页 |
| 1.3.3 双极性半导体材料 | 第16页 |
| 1.4 金属酞菁及含氟金属酞菁的合成 | 第16-18页 |
| 1.4.1 金属酞菁的合成方法 | 第16-17页 |
| 1.4.2 含氟金属酞菁的合成方法 | 第17-18页 |
| 1.5 论文的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 4-氟邻苯二甲酰亚胺及四氟金属酞菁的合成与表征 | 第19-31页 |
| 2.1 实验方法 | 第19-23页 |
| 2.1.1 主要原料及试剂 | 第19-21页 |
| 2.1.2 仪器与设备 | 第21页 |
| 2.1.3 4-氨基邻苯二甲酰亚胺的合成 | 第21-22页 |
| 2.1.4 4-氟硼酸重氮基邻苯二甲酰亚胺的合成 | 第22页 |
| 2.1.5 4-氟邻苯二甲酰亚胺的合成 | 第22页 |
| 2.1.6 四氟金属酞菁的合成 | 第22-23页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第23-29页 |
| 2.2.1 4-氨基邻苯二甲酰亚胺的合成 | 第23-24页 |
| 2.2.2 4-氟硼酸重氮基邻苯二甲酰亚胺的合成 | 第24-25页 |
| 2.2.3 4-氟邻苯二甲酰亚胺合成工艺优化 | 第25-28页 |
| 2.2.4 四氟金属酞菁合成方法的选择 | 第28-29页 |
| 2.3 四氟金属酞菁的结构表征 | 第29-31页 |
| 第三章 四氟金属酞菁的性能研究 | 第31-40页 |
| 3.1 实验方法 | 第31-32页 |
| 3.1.1 主要原料及试剂 | 第31-32页 |
| 3.1.2 主要实验仪器 | 第32页 |
| 3.1.3 性能测试方法 | 第32页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第32-40页 |
| 3.2.1 四氟金属酞菁的紫外-可见吸收性能 | 第32-33页 |
| 3.2.2 氟取代基对金属酞菁紫外光谱的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.3 不同溶剂对 CuPcF4紫外-可见光谱的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.4 溶液浓度对 CuPcF4紫外-可见吸收光谱的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.5 四氟金属酞菁的荧光性质 | 第36页 |
| 3.2.6 氟取代基对金属酞菁荧光性质的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.7 四氟金属酞菁的热性能研究 | 第37-38页 |
| 3.2.8 四氟金属酞菁的溶解性能研究 | 第38页 |
| 3.2.9 四氟酞菁铜在有机场效应晶体管中的应用研究 | 第38-40页 |
| 第四章 结论 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-46页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 附录 | 第48-55页 |
