| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 石墨烯的概述 | 第8-11页 |
| 1.1.1 石墨烯的发展 | 第8-9页 |
| 1.1.2 石墨烯的应用 | 第9-11页 |
| 1.2 石墨烯的结构和特性 | 第11-13页 |
| 1.2.1 石墨烯的结构 | 第11-12页 |
| 1.2.2 石墨烯的特性 | 第12-13页 |
| 1.3 石墨烯的制备方法 | 第13-15页 |
| 1.3.1 物理方法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 化学方法 | 第14-15页 |
| 1.4 石墨烯的表征 | 第15-18页 |
| 1.4.1 光学显微镜 | 第15-16页 |
| 1.4.2 分光光度计 | 第16页 |
| 1.4.3 傅里叶变换红外光谱仪 | 第16-17页 |
| 1.4.4 xps能谱 | 第17-18页 |
| 1.5 本课题的研究意义和主要内容 | 第18-19页 |
| 1.5.1 课题的主要目的和意义 | 第18-19页 |
| 1.5.2 研究的主要内容 | 第19页 |
| 1.6 本章小结 | 第19-20页 |
| 2 石墨烯薄膜的制备工艺及表征 | 第20-32页 |
| 2.1 超声指标的确定 | 第20-25页 |
| 2.1.1 超声功率的选择 | 第20-21页 |
| 2.1.2 超声时间的选择 | 第21-23页 |
| 2.1.3 超声溶剂的选择 | 第23-24页 |
| 2.1.4 超声分散液浓度的选择 | 第24-25页 |
| 2.2 涂层厚度的确定 | 第25-26页 |
| 2.3 表面活化 | 第26-27页 |
| 2.4 热处理温度的确定 | 第27-29页 |
| 2.5 电极的确定 | 第29-31页 |
| 2.5.1 电极厚度的确定 | 第29-30页 |
| 2.5.2 电极材料的确定 | 第30-31页 |
| 2.6 本章小结 | 第31-32页 |
| 3 石墨烯薄膜器件的制备及测试 | 第32-40页 |
| 3.1 实验设备 | 第32-37页 |
| 3.1.1 JGP500型高真空多功能磁控溅射设备 | 第32-33页 |
| 3.1.2 ICP-98A型高密度等离子体刻蚀机 | 第33-34页 |
| 3.1.3 RTP-500型快速热处理设备 | 第34-35页 |
| 3.1.4 KQ-100D型数控超声清洗器 | 第35页 |
| 3.1.5 超纯水制备系统 | 第35-36页 |
| 3.1.6 KW-4A型台式匀胶机 | 第36页 |
| 3.1.7 keithley236源测量单元 | 第36-37页 |
| 3.2 实验原料 | 第37页 |
| 3.3 实验步骤 | 第37-38页 |
| 3.3.1 氧化石墨烯溶液制备 | 第37页 |
| 3.3.2 基底处理 | 第37-38页 |
| 3.3.3 基底GO的高温还原 | 第38页 |
| 3.3.4 电极制备及石墨烯薄膜器件的完成 | 第38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 4 石墨烯薄膜的光电性能研究 | 第40-45页 |
| 4.1 石墨烯薄膜的Ⅰ-Ⅴ特性研究 | 第40-42页 |
| 4.2 石墨烯薄膜的温度特性测试 | 第42-43页 |
| 4.3 石墨烯薄膜的光谱响应测试 | 第43-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 5 结论与展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-52页 |