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Bi2WO6纳米结构的合成及其γ射线屏蔽性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
1 绪论第10-26页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 γ射线辐射防护材料的研究现状第11-15页
        1.2.1 γ射线的简介第11-12页
        1.2.2 γ射线与物质的相互作用第12-15页
    1.3 纳米材料在辐射防护中的应用第15-18页
        1.3.1 防护材料与 γ光子的相互作用第16-18页
    1.4 钨酸铋纳米材料防护γ射线的可行性第18-23页
        1.4.1 钨酸铋的晶体结构第20-21页
        1.4.2 钨酸铋纳米结构的可控合成第21-23页
    1.5 选题的目的和研究内容第23-26页
2 实验部分第26-35页
    2.1 实验试剂与仪器第26-27页
    2.2 钨酸铋纳米结构的制备流程第27-28页
    2.3 实验测试分析第28-35页
        2.3.1 X射线衍射分析 (XRD)第28-29页
        2.3.2 场发射扫描电子显微镜镜分析 (SEM)第29-30页
        2.3.3 透射电子显微镜分析 ( TEM)第30页
        2.3.4 BET比 表面积分析第30-31页
        2.3.5 紫外可见光DRS分析第31-32页
        2.3.6 荧光光谱分析第32-33页
        2.3.7 X射线光电子能谱分析 ( XPS)第33页
        2.3.8 拉曼光谱测试第33-34页
        2.3.9 样品的 γ射线防护性能测试第34-35页
3 钨酸铋纳米结构合成的影响因素及其γ 射线屏蔽性能的研究第35-53页
    3.1 引言第35页
    3.2 pH值对溶剂热法合成钨酸铋纳米结构的影响第35-39页
        3.2.1 钨酸铋粉体的物相结构分析第36-37页
        3.2.2 钨酸铋粉体的形貌分析第37-39页
    3.3 温度对溶剂热法合成钨酸铋纳米结构的影响第39-41页
        3.3.1 钨酸铋粉体的物相结构分析第39-40页
        3.3.2 钨酸铋粉体的形貌分析第40-41页
    3.4 溶剂对溶剂热法合成钨酸铋纳米结构的影响第41-51页
        3.4.1 钨酸铋晶体的物相及形貌分析第42-44页
        3.4.2 钨酸铋纳米晶体生长机理微探究第44-46页
        3.4.3 钨酸铋粉体的紫外-可见光漫反射光谱分析第46-48页
        3.4.4 钨酸铋粉体的光致发光分析第48-49页
        3.4.5 γ射线辐射防护性能第49-51页
    3.5 本章小结第51-53页
4 Ce掺杂钨酸铋纳米结构的合成及 γ 射线防护性能研究第53-67页
    4.1 引言第53页
    4.2 Ce掺 杂对钨酸铋粉体结构、形貌性能的影响第53-58页
        4.2.1 Ce掺杂钨酸铋粉体的物相结构及元素组成分析第54-56页
        4.2.2 Ce掺杂钨酸铋粉体的微观形貌分析第56-58页
    4.3 Ce掺杂钨酸铋粉体的表面结构及化学组成分析第58-61页
    4.4 Ce掺杂钨酸铋粉体的紫外-可见漫反射光谱分析第61-62页
    4.5 Ce掺杂钨酸铋粉体的比表面积 ( BET) 分析第62页
    4.6 Ce-Bi_2WO_6材料γ射线防护性能第62-65页
    4.7 本章小结第65-67页
结论第67-69页
致谢第69-71页
参考文献第71-79页
读硕士学位期间发表的学术论文及研究成果第79页

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