| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| CONTENTS | 第12-15页 |
| 图表目录 | 第15-20页 |
| 主要符号表 | 第20-21页 |
| 第一章 绪论 | 第21-45页 |
| 1.1 化学热处理表面工程 | 第21-22页 |
| 1.1.1 渗氮技术 | 第21页 |
| 1.1.2 渗氮发展史概述 | 第21-22页 |
| 1.2 等离子体渗氮技术发展现状 | 第22-37页 |
| 1.2.1 等离子体技术 | 第22页 |
| 1.2.2 离子渗氮技术 | 第22-25页 |
| 1.2.3 余辉渗氮技术 | 第25-26页 |
| 1.2.4 等离子体基低能离子注入技术 | 第26-27页 |
| 1.2.5 等离子体源渗氮技术 | 第27-37页 |
| 1.3 γN相工程表面 | 第37-42页 |
| 1.3.1 γN相发展背景 | 第37-39页 |
| 1.3.2 γN相的特征 | 第39-42页 |
| 1.4 本论文的研究目的和内容 | 第42-45页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第42-43页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第43-45页 |
| 第二章 等离子体源渗氮装置、工艺与渗氮层表征方法 | 第45-52页 |
| 2.1 实验材料 | 第45页 |
| 2.2 等离子体源渗氮装置与改性工艺 | 第45-47页 |
| 2.2.1 等离子体源渗氮装置 | 第45-46页 |
| 2.2.2 实验过程与改性工艺 | 第46-47页 |
| 2.3 渗氮层表征方法 | 第47-52页 |
| 2.3.1 渗氮层组织、成分与结构分析 | 第47-48页 |
| 2.3.2 表面粗糙度与显微硬度分析 | 第48页 |
| 2.3.3 摩擦学性能分析 | 第48-49页 |
| 2.3.4 腐蚀电化学性能分析 | 第49-52页 |
| 第三章 等离子体源渗氮AISI 316奥氏体不锈钢工艺研究 | 第52-75页 |
| 3.1 渗氮温度对渗氮层组织、成分与性能的影响 | 第52-57页 |
| 3.1.1 金相组织 | 第52-54页 |
| 3.1.2 表面粗糙度 | 第54页 |
| 3.1.3 成分-深度分布 | 第54-55页 |
| 3.1.4 相结构 | 第55-56页 |
| 3.1.5 显微硬度-深度分布 | 第56-57页 |
| 3.2 工作气压对渗氮层组织、成分与性能的影响 | 第57-60页 |
| 3.2.1 金相组织 | 第57页 |
| 3.2.2 表面粗糙度 | 第57-58页 |
| 3.2.3 成分-深度分布 | 第58页 |
| 3.2.4 显微硬度-深度分布 | 第58-60页 |
| 3.3 试样偏压对渗氮层组织、成分与性能的影响 | 第60-63页 |
| 3.3.1 金相组织 | 第60页 |
| 3.3.2 表面粗糙度 | 第60-62页 |
| 3.3.3 成分-深度分布 | 第62页 |
| 3.3.4 显微硬度-深度分布 | 第62-63页 |
| 3.4 试样位置对渗氮层组织、成分与性能的影响 | 第63-67页 |
| 3.4.1 金相组织 | 第63-64页 |
| 3.4.2 表面粗糙度 | 第64页 |
| 3.4.3 成分-深度分布 | 第64-66页 |
| 3.4.4 显微硬度-深度分布 | 第66-67页 |
| 3.5 等离子体源渗氮工艺特性图 | 第67-70页 |
| 3.6 讨论 | 第70-73页 |
| 3.7 本章小结 | 第73-75页 |
| 第四章 等离子体源渗氮AISI 316奥氏体不锈钢摩擦学性能 | 第75-106页 |
| 4.1 等离子体源渗氮AISI 316奥氏体不锈钢耐磨性能 | 第75-79页 |
| 4.2 γN相渗氮层成分结构和显微硬度 | 第79-82页 |
| 4.3 γN相摩擦磨损行为 | 第82-98页 |
| 4.3.1 摩擦系数 | 第82-92页 |
| 4.3.3 磨屑 | 第92-97页 |
| 4.3.4 磨损体积和比磨损率 | 第97-98页 |
| 4.4 磨损图 | 第98-101页 |
| 4.5 讨论 | 第101-104页 |
| 4.5.1 氧化磨损机制 | 第101-102页 |
| 4.5.2 磨粒磨损机制 | 第102页 |
| 4.5.3 磨损机制的转变 | 第102-104页 |
| 4.6 本章小结 | 第104-106页 |
| 第五章 等离子体源渗氮AISI 316奥氏体不锈钢腐蚀电化学性能 | 第106-135页 |
| 5.1 γN相耐孔蚀性能 | 第106-108页 |
| 5.1.1 阳极极化曲线 | 第106页 |
| 5.1.2 腐蚀表面形貌 | 第106-108页 |
| 5.2 γN相电化学阻抗谱分析 | 第108-115页 |
| 5.2.1 电化学阻抗谱 | 第108-111页 |
| 5.2.2 不同浸泡时间下γN相电化学阻抗谱 | 第111-113页 |
| 5.2.3 不同钝化电位下γN相电化学阻抗谱 | 第113-115页 |
| 5.3 γN相钝化膜半导体特性 | 第115-120页 |
| 5.3.1 Mott-Schottky理论 | 第115-116页 |
| 5.3.2 Mott-Schottky曲线 | 第116-120页 |
| 5.4 γN相钝化膜成分及价态 | 第120-129页 |
| 5.5 讨论 | 第129-133页 |
| 5.6 本章小结 | 第133-135页 |
| 第六章 结论与展望 | 第135-138页 |
| 6.1 总结论 | 第135-136页 |
| 6.2 创新点摘要 | 第136-137页 |
| 6.3 展望 | 第137-138页 |
| 参考文献 | 第138-144页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第144-145页 |
| 致谢 | 第145-146页 |
| 作者简介 | 第146-147页 |
