| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-42页 |
| 第一节 超导现象的历史背景 | 第12-14页 |
| 第二节 超导电性的应用 | 第14-22页 |
| 1.2.1 弱电应用及其现状 | 第14-19页 |
| 1.2.2 强电应用及其现状 | 第19-22页 |
| 第三节 超导体分类 | 第22-32页 |
| 1.3.1 超导材料简介 | 第22-25页 |
| 1.3.2 第一类超导体 | 第25-27页 |
| 1.3.3 第二类超导体 | 第27-32页 |
| 第四节 铊系超导薄膜的简介 | 第32-38页 |
| 1.4.1 铊系超导薄膜的晶体结构 | 第32-34页 |
| 1.4.2 影响铊系超导薄膜的热力学和动力学因素 | 第34-38页 |
| 第五节 本文的研究意义 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-42页 |
| 第二章 Tl系超导薄膜的制备方法及材料表征 | 第42-81页 |
| 第一节 低温条件的实现 | 第42-44页 |
| 第二节 晶体结构分析方法 | 第44-50页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析 | 第44-49页 |
| 2.2.2 X射线能量色散谱 | 第49页 |
| 2.2.3 电子能耗谱 | 第49-50页 |
| 第三节 超导薄膜的结构特性 | 第50-53页 |
| 2.3.1 高温超导体中的缺陷 | 第50-51页 |
| 2.3.2 超导体中氧含量分析 | 第51-52页 |
| 2.3.3 晶界和弱连接现象 | 第52-53页 |
| 第四节 铊系高温超导薄膜的制备 | 第53-69页 |
| 2.4.1 高温超导薄膜的制备原理 | 第53-56页 |
| 2.4.2 沉积工艺的应用现状 | 第56-64页 |
| 2.4.3 衬底的选择 | 第64-69页 |
| 第五节 高温超导薄膜的超导电性分析 | 第69-77页 |
| 2.5.1 超导临界温度(T_c)测试 | 第69页 |
| 2.5.2 临界电流密度(J_c)测试 | 第69-72页 |
| 2.5.3 扫描电子显微镜 | 第72-74页 |
| 2.5.4 微波表面电阻(R_s)测试 | 第74-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 第三章 在Ar中制备Tl-2223超导薄膜 | 第81-101页 |
| 第一节 Tl-2223溅射靶材的制备 | 第82-83页 |
| 第二节 Tl-2223非晶态先驱膜的沉积 | 第83-84页 |
| 第三节 退火制备中间相Tl-2212 | 第84-89页 |
| 3.3.1 陪烧靶的制作 | 第84-85页 |
| 3.3.2 制备中间相Tl-2212 | 第85-86页 |
| 3.3.3 退火时间对中间相Tl-2212的影响 | 第86-89页 |
| 第四节 Tl-2212到Tl-2223的转变 | 第89-94页 |
| 3.4.1 二次退火生长Tl-2223 | 第90-91页 |
| 3.4.2 二次退火时间对Tl-2212转化成Tl-2223薄膜的影响 | 第91-93页 |
| 3.4.3 直接退火先驱膜生长Tl-2223 | 第93-94页 |
| 第五节 单面10 mm×10 mmTl-2223薄膜的制备 | 第94-98页 |
| 第六节 本章小结 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-101页 |
| 第四章 O_2在Tl-2223超导薄膜制备中的作用 | 第101-122页 |
| 第一节 氧气对Tl-2223的薄膜的影响 | 第101-109页 |
| 4.1.1 退火气氛中氧气的比例对Tl-2223薄膜的影响 | 第101-104页 |
| 4.1.2 在氧氩混气中退火温度对Tl-2223薄膜的影响 | 第104-107页 |
| 4.1.3 在氧氩混气中退火时间对Tl-2223薄膜的影响 | 第107-109页 |
| 第二节 流氧退火 | 第109-115页 |
| 4.2.1 对Ar下制备的Tl-2223进行流氧退火 | 第109-111页 |
| 4.2.2 对氩氧混气下制备的Tl-2223进行流氧退火 | 第111-113页 |
| 4.2.3 对非晶态的先驱膜直接进行流氧退火 | 第113-115页 |
| 第三节 双面10 mm×10 mm Tl-2223薄膜的制备 | 第115-120页 |
| 第四节 本章小结 | 第120-121页 |
| 参考文献 | 第121-122页 |
| 第五章 研制工作在108K以下的Tl-2223超导滤波器 | 第122-138页 |
| 第一节 高温超导滤波器 | 第122-128页 |
| 5.1.1 高温超导滤波器应用优势 | 第122页 |
| 5.1.2 高温超导滤波器综合理论 | 第122-125页 |
| 5.1.3 高温超导滤波器设计方法 | 第125-128页 |
| 第二节 工作在108K以下的Tl-2223超导滤波器 | 第128-135页 |
| 5.2.1 Tl-2223超导滤波器的制备 | 第130-132页 |
| 5.2.2 Tl-2223超导滤波器的特性分析 | 第132-135页 |
| 第三节 本章小结 | 第135-136页 |
| 参考文献 | 第136-138页 |
| 第六章 总结与展望 | 第138-140页 |
| 致谢 | 第140-141页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第141-142页 |
