摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-10页 |
2 薄膜的气相沉积技术及TiN 薄膜的研究现状 | 第10-23页 |
·薄膜的气相沉积技术 | 第10-21页 |
·气相沉积技术的发展历史 | 第11-12页 |
·气相沉积技术分类 | 第12-21页 |
·氮化钛薄膜的研究现状 | 第21-23页 |
3 试验设备与材料 | 第23-27页 |
·真空溅射镀膜机 | 第23页 |
·磁控靶 | 第23-24页 |
·气源系统 | 第24页 |
·工作气体进气系统 | 第24页 |
·反应气体进气系统 | 第24页 |
·电源系统 | 第24-25页 |
·中频溅射电源 | 第24页 |
·偏压电源 | 第24-25页 |
·气体分析系统 | 第25页 |
·试验用基体材料及试样制备 | 第25页 |
·试样测量仪器 | 第25-27页 |
·显微硬度计 | 第25页 |
·扫描电子显微镜 | 第25-26页 |
·盐雾试验机 | 第26页 |
·双管显微镜 | 第26-27页 |
4 镀膜工艺与氮化钛薄膜的制备 | 第27-32页 |
·镀膜工艺 | 第27-30页 |
·试验的正交设计方法 | 第27-29页 |
·镀膜工艺的正交设计表 | 第29-30页 |
·氮化钛薄膜的制备 | 第30-32页 |
·试验前准备的工作 | 第30页 |
·镀膜工艺流程 | 第30-32页 |
5 SP-0707AS 型真空溅镀机的安装与调试 | 第32-39页 |
·设备配置及安装准备 | 第32-36页 |
·设备的配置 | 第32-34页 |
·设备的安装准备 | 第34-36页 |
·真空镀膜机的操作流程 | 第36-39页 |
·开机 | 第36页 |
·待机 | 第36-37页 |
·抽真空 | 第37页 |
·镀膜 | 第37-38页 |
·关机 | 第38-39页 |
6 氮化钛薄膜的性能测定及工艺参数对薄膜性能的影响 | 第39-52页 |
·概述 | 第39页 |
·氮化钛薄膜的性能测定 | 第39-52页 |
·氮化钛薄膜显微硬度的测定方法 | 第39-40页 |
·氮化钛薄膜显微硬度的检验 | 第40-41页 |
·氮化钛薄膜厚度的测定方法 | 第41页 |
·氮化钛薄膜厚度的检验 | 第41-42页 |
·氮化钛薄膜耐蚀性的测定方法 | 第42-46页 |
·氮化钛薄膜耐蚀性的检验 | 第46-48页 |
·氮化钛薄膜表面粗糙度的测定方法 | 第48-50页 |
·氮化钛薄膜表面粗糙度的检验 | 第50-52页 |
7 结论与存在的问题 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53-58页 |
在读期间发表的学术论文 | 第58-59页 |
作者简历 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |