氮掺杂氧化锌薄膜的制备及其结构、形貌和光学特性研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 引言 | 第9-17页 |
| 1.1 透明导电薄膜 | 第9-10页 |
| 1.2 ZnO基透明导电氧化物薄膜 | 第10-12页 |
| 1.2.1 ZnO的基本结构 | 第10-11页 |
| 1.2.2 ZnO的物理性质及应用 | 第11-12页 |
| 1.3 ZnO薄膜的掺杂 | 第12-15页 |
| 1.3.1 ZnO薄膜的本征缺陷 | 第12-13页 |
| 1.3.2 ZnO薄膜的掺杂性质 | 第13页 |
| 1.3.3 ZnO薄膜的n型掺杂和p型掺杂 | 第13-14页 |
| 1.3.4 氮掺杂氧化锌薄膜的研究 | 第14-15页 |
| 1.4 内容简介 | 第15-17页 |
| 第2章 薄膜的制备及检测方法 | 第17-28页 |
| 2.1 磁控溅射技术 | 第17-22页 |
| 2.1.1 溅射镀膜 | 第17-18页 |
| 2.1.2 磁控溅射 | 第18-22页 |
| 2.2 实验设备及制备过程 | 第22-24页 |
| 2.2.1 实验设备 | 第22-24页 |
| 2.2.2 薄膜的制备过程 | 第24页 |
| 2.3 薄膜的表征 | 第24-28页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第26页 |
| 2.3.3 紫外可见吸收光谱（UV-vis） | 第26-28页 |
| 第3章 结果与分析 | 第28-45页 |
| 3.1 氮分压对ZnO薄膜的结构及光电特性影响 | 第28-36页 |
| 3.1.1 实验参数 | 第28-29页 |
| 3.1.2 薄膜的XRD分析 | 第29-32页 |
| 3.1.3 薄膜的SEM分析 | 第32-34页 |
| 3.1.4 薄膜的UV-Vis分析 | 第34-36页 |
| 3.1.5 小结 | 第36页 |
| 3.2 氧分压对ZnO薄膜的结构及光电特性影响 | 第36-42页 |
| 3.2.1 实验参数 | 第36-37页 |
| 3.2.2 薄膜的XRD分析 | 第37-39页 |
| 3.2.3 薄膜的SEM分析 | 第39-40页 |
| 3.2.4 薄膜的UV-Vis分析 | 第40-42页 |
| 3.2.5 实验小结 | 第42页 |
| 3.3 工作压强对ZnO薄膜的结构影响 | 第42-45页 |
| 结论 | 第45-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 攻读学位期间发表的论文清单 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 附录：磁控溅射制备薄膜的操作过程 | 第54-57页 |
