摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第9-26页 |
1.1 磁化强度动力学 | 第9-10页 |
1.1.1 共振频率 | 第9页 |
1.1.2 阻尼因子 | 第9-10页 |
1.2 经典磁化强度动力学表征方法 | 第10-12页 |
1.2.1 电子顺磁共振(ESR) | 第10-11页 |
1.2.2 矢量网络分析仪(VNA) | 第11-12页 |
1.3 直流电测量方法 | 第12-13页 |
1.3.1 经典磁动力学表征方法的局限性 | 第12-13页 |
1.3.2 直流电测量方法的发展与挑战 | 第13页 |
1.4 自旋整流效应 | 第13-20页 |
1.4.1 自旋整流效应基本原理 | 第14页 |
1.4.2 AMR效应与AMR自旋整流效应 | 第14-16页 |
1.4.3 PHE效应与PHE自旋整流效应 | 第16-17页 |
1.4.4 AHE效应与AHE自旋整流效应 | 第17-19页 |
1.4.5 广义欧姆定律 | 第19-20页 |
1.5 本论文的研究内容及研究意义 | 第20-21页 |
参考文献 | 第21-26页 |
第二章 磁化强度动力学理论 | 第26-39页 |
引言 | 第26页 |
2.1 磁化强度动力学理论描述 | 第26页 |
2.2 面内位型下磁化强度动力学理论描述 | 第26-32页 |
2.2.1 面内位型具有单轴各向异性样品的本征共振频率 | 第26-29页 |
2.2.2 磁化强度有阻尼进动情况下张量磁化率χ | 第29-31页 |
2.2.3 磁化强度进动相位 | 第31-32页 |
2.3 垂直位型下磁化强度动力学理论描述 | 第32-38页 |
2.3.1 垂直位型下磁化强度的稳定方向 | 第33-34页 |
2.3.2 垂直位型下具有单轴各向异性样品的本征共振频率 | 第34-35页 |
2.3.3 垂直位型下动态磁化强度张量磁化率χ | 第35-38页 |
2.4 本章小结 | 第38页 |
参考文献 | 第38-39页 |
第三章 自旋整流效应理论 | 第39-52页 |
引言 | 第39页 |
3.1 自旋整流效应与广义欧姆定律 | 第39-41页 |
3.2 面内位型下自旋整流效应理论 | 第41-45页 |
3.2.1 面内位型下AMR自旋整流理论 | 第43-44页 |
3.2.2 面内位型下PHE自旋整流理论 | 第44页 |
3.2.3 面内位型下AHE自旋整流理论 | 第44-45页 |
3.2.4 小结:面内位型下三种自旋整流理论 | 第45页 |
3.3 垂直位型下自旋整流效应理论 | 第45-48页 |
3.3.1 垂直位型下AMR自旋整流、PHE自旋整流、AHE自旋整流 | 第47-48页 |
3.3.2 小结:垂直位型下三种自旋整流理论 | 第48页 |
3.4 本章小结 | 第48-51页 |
3.4.1 自旋整流信号谱线线形分析 | 第48-49页 |
3.4.2 自旋整流效应整流电压信号强度的线型角度依赖关系 | 第49-51页 |
参考文献 | 第51-52页 |
第四章 自旋整流效应实验验证 | 第52-67页 |
引言 | 第52页 |
4.1 微波器件设计思路 | 第52页 |
4.2 磁性材料选取 | 第52-53页 |
4.3 器件制备 | 第53-56页 |
4.3.1 磁控溅射制备磁性薄膜 | 第53页 |
4.3.2 光刻技术 | 第53-54页 |
4.3.3 微波器件结构 | 第54-56页 |
4.4 直流电测量系统 | 第56页 |
4.5 自旋整流效应实验结果分析 | 第56-65页 |
4.5.1 静态磁电阻分析 | 第56-58页 |
4.5.2 磁性材料动态高频参数的测定 | 第58-59页 |
4.5.3 面内位型下AMR自旋整流线型角度依赖关系 | 第59-60页 |
4.5.4 面内位型下PHE自旋整流线型角度依赖关系 | 第60-61页 |
4.5.5 面内位型下AHE自旋整流线型角度依赖关系 | 第61-62页 |
4.5.6 垂直位型下自旋整流线型角度依赖关系 | 第62-65页 |
4.6 本章小结 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-67页 |
第五章 结束语 | 第67-70页 |
5.1 本论文主要研究内容总结 | 第67-68页 |
5.2 研究工作的展望 | 第68-69页 |
5.3 硕士期间研究成果 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |