摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第12-30页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 TiO_2主要结构与性质 | 第13-15页 |
1.2.1 TiO_2的主要性质 | 第13-14页 |
1.2.2 TiO_2的主要结构 | 第14-15页 |
1.3 TiO_2的制备方法 | 第15-18页 |
1.3.1 磁控溅射法 | 第15-16页 |
1.3.2 水热法 | 第16-17页 |
1.3.3 电化学法 | 第17页 |
1.3.4 气相沉积法 | 第17-18页 |
1.4 TiO_2的改性 | 第18-22页 |
1.4.1 半导体复合 | 第19-20页 |
1.4.2 金属离子掺杂 | 第20页 |
1.4.3 非金属离子掺杂 | 第20-21页 |
1.4.4 有机物改性 | 第21-22页 |
1.5 TiO_2纳米材料的应用 | 第22-26页 |
1.5.1 光伏应用 | 第23页 |
1.5.2 生物医学应用 | 第23-24页 |
1.5.3 光催化水解 | 第24-25页 |
1.5.4 气体传感器 | 第25页 |
1.5.5 在其他方面的应用 | 第25-26页 |
1.6 Cu_2O/TiO_2复合薄膜的研究进展 | 第26-27页 |
1.7 选题依据与研究内容 | 第27-30页 |
第二章 TiO_2纳米片的制备及其光电性能的研究 | 第30-40页 |
2.1 引言 | 第30页 |
2.2 实验部分 | 第30-33页 |
2.2.1 实验原料及设备 | 第30-31页 |
2.2.2 TiO_2纳米片的制备 | 第31-32页 |
2.2.3 测试与分析 | 第32-33页 |
2.3 结果与讨论 | 第33-38页 |
2.3.1 SEM的分析 | 第33-34页 |
2.3.2 XRD分析 | 第34页 |
2.3.3 UV-Vis分析 | 第34-35页 |
2.3.4 光电流分析 | 第35-36页 |
2.3.5 开路电压和i-v曲线分析 | 第36页 |
2.3.6 M-S plot曲线分析 | 第36-37页 |
2.3.7 TiO_2纳米片形成机理分析 | 第37-38页 |
2.4 本章小结 | 第38-40页 |
第三章 Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的制备及其光电性能的研究 | 第40-56页 |
3.1 引言 | 第40页 |
3.2 实验部分 | 第40-42页 |
3.2.1 实验原料及设备 | 第40-41页 |
3.2.2 Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的制备 | 第41-42页 |
3.2.3 测试与分析 | 第42页 |
3.3 结果与讨论 | 第42-54页 |
3.3.1 湿化学法制备Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的形成机理 | 第42-43页 |
3.3.2 溶液添加顺序对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜形貌及光电性能的影响 | 第43-49页 |
3.3.3 NaOH浓度对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜形貌及光电性能的影响 | 第49-54页 |
3.4 本章小结 | 第54-56页 |
第四章 不同形貌的Cu_2O对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的影响 | 第56-68页 |
4.1 引言 | 第56-57页 |
4.2 实验部分 | 第57-59页 |
4.2.1 实验原料及设备 | 第57页 |
4.2.2 不同形貌Cu_2O的Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的制备 | 第57-59页 |
4.2.3 测试与分析 | 第59页 |
4.3 结果与讨论 | 第59-67页 |
4.3.1 SEM分析 | 第59-62页 |
4.3.2 XRD分析 | 第62-63页 |
4.3.3 UV-Vis分析 | 第63-64页 |
4.3.4 光电流分析 | 第64页 |
4.3.5 开路电压衰减 | 第64-65页 |
4.3.6 光电转化效率分析 | 第65-66页 |
4.3.7 阻抗分析 | 第66-67页 |
4.4 本章小结 | 第67-68页 |
第五章 结论与展望 | 第68-70页 |
5.1 结论 | 第68-69页 |
5.2 展望 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-78页 |
致谢 | 第78-80页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第80页 |