| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 二氧化钒的结构和性质 | 第11-15页 |
| 1.2.1 二氧化钒的晶体结构 | 第11-13页 |
| 1.2.2 二氧化钒的能带结构 | 第13-14页 |
| 1.2.3 二氧化钒的电学性质 | 第14-15页 |
| 1.2.4 二氧化钒的光学性质 | 第15页 |
| 1.3 金属绝缘体转变的机理 | 第15-20页 |
| 1.4 VO_2薄膜的应用前景 | 第20-24页 |
| 1.5 VO_2薄膜的制备方法 | 第24-25页 |
| 1.6 本文的主要工作 | 第25-26页 |
| 第二章 脉冲激光沉积制备VO_2薄膜 | 第26-39页 |
| 2.1 脉冲激光沉积概述 | 第26-27页 |
| 2.1.1 脉冲激光系统的工作原理 | 第26-27页 |
| 2.2 实验准备 | 第27-28页 |
| 2.2.1 靶材的准备 | 第27页 |
| 2.2.2 衬底的选择和清洗 | 第27-28页 |
| 2.3 PLD实验的具体操作及注意事项 | 第28页 |
| 2.4 薄膜测量及表征方法 | 第28-30页 |
| 2.4.1 台阶仪 | 第29页 |
| 2.4.2 X射线衍射 | 第29-30页 |
| 2.4.3 X光电子能谱分析 | 第30页 |
| 2.4.4 扫描电子显微镜 | 第30页 |
| 2.4.5 自组装变温I-V测量装置 | 第30页 |
| 2.5 实验方法及结果讨论 | 第30-39页 |
| 2.5.1 金属钒作为靶材 | 第31-34页 |
| 2.5.2 V_2O_5作为靶材 | 第34-39页 |
| 第三章 高温氢退火还原V_2O_5制备二氧化钒薄膜 | 第39-49页 |
| 3.1 概述 | 第39页 |
| 3.2 退火炉介绍 | 第39-40页 |
| 3.3 实验流程及具体操作 | 第40页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第40-48页 |
| 3.5 小结 | 第48-49页 |
| 第四章 结论与展望 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第56-57页 |