转角石墨烯的制备表征和应用
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 引言 | 第12-37页 |
| 第一节 石墨烯异质结构的制备和发展 | 第12-18页 |
| 1.1.1 石墨烯异质结构的起源 | 第12-14页 |
| 1.1.2 石墨烯异质结构的制备 | 第14-16页 |
| 1.1.3 石墨烯异质结构的发展 | 第16-18页 |
| 第二节 转角石墨烯的基本性质与研究现状 | 第18-33页 |
| 1.2.1 转角石墨烯的起源与发展 | 第19-20页 |
| 1.2.2 转角双层石墨烯的制备 | 第20-22页 |
| 1.2.3 转角双层石墨烯的基本性质 | 第22-29页 |
| 1.2.4 转角三层石墨烯的基本性质 | 第29-33页 |
| 第三节 本论文的研究内容和研究意义 | 第33-37页 |
| 第二章 石墨烯转移技术 | 第37-62页 |
| 第一节 石墨烯转移技术介绍 | 第37-41页 |
| 2.1.1 基于PMMA的转移技术 | 第37-38页 |
| 2.1.2 基于PDMS的转移技术 | 第38-40页 |
| 2.1.3 基于TRT的转移技术 | 第40-41页 |
| 第二节 大面积CVD石墨烯的高质量快速转移 | 第41-50页 |
| 2.2.1 转移原理与过程 | 第41-43页 |
| 2.2.2 转移结果与表征 | 第43-48页 |
| 2.2.3 器件制备与测试 | 第48-50页 |
| 第三节 图形化机械剥离石墨烯的选择性定点转移 | 第50-59页 |
| 2.3.1 转移原理与过程 | 第50-51页 |
| 2.3.2 转移结果与表征 | 第51-55页 |
| 2.3.3 器件制备与测试 | 第55-59页 |
| 第四节 本章总结与讨论 | 第59-62页 |
| 第三章 旋转角度可控转角双层石墨烯的制备与表征 | 第62-81页 |
| 第一节 旋转角度可控转角双层石墨烯制备方法 | 第62-70页 |
| 3.1.1 制备原理与过程 | 第62-65页 |
| 3.1.2 转移媒介的选择 | 第65-66页 |
| 3.1.3 有机物支撑薄膜的选择 | 第66-67页 |
| 3.1.4 热退火处理对样品的影响 | 第67-70页 |
| 第二节 旋转角度控制机理与控制精度 | 第70-73页 |
| 3.2.1 旋转角度控制机理 | 第70-71页 |
| 3.2.2 角度控制精度 | 第71-73页 |
| 第三节 旋转角度可控转角双层石墨烯的表征 | 第73-79页 |
| 3.3.1 转角双层石墨烯拉曼光谱 | 第74-77页 |
| 3.3.2 转角双层石墨烯超晶格 | 第77-79页 |
| 第四节 本章总结与讨论 | 第79-81页 |
| 第四章 旋转角度可控转角双层石墨烯的应用 | 第81-94页 |
| 第一节 全内反射石墨烯光学吸收增强 | 第81-88页 |
| 4.1.1 全内反射石墨烯光学吸收测量原理与装置 | 第81-85页 |
| 4.1.2 全内反射角度分辨吸收成像 | 第85-88页 |
| 第二节 全内反射转角双层石墨烯光电探测 | 第88-92页 |
| 4.2.1 器件制备与测试 | 第88-89页 |
| 4.2.2 偏振依赖光电响应增强 | 第89-92页 |
| 第三节 本章总结与讨论 | 第92-94页 |
| 第五章 旋转角度可控转角三层石墨烯的制备与表征 | 第94-105页 |
| 第一节 双转角三层石墨烯的制备 | 第94-98页 |
| 5.1.1 多次堆叠法制备双转角三层石墨烯 | 第95-96页 |
| 5.1.2 单次堆叠法制备双转角三层石墨烯 | 第96-98页 |
| 第二节 双转角三层石墨烯拉曼光谱 | 第98-103页 |
| 5.2.1 相邻两层石墨烯的相互作用 | 第99-100页 |
| 5.2.2 上下两层石墨烯的相互作用 | 第100-101页 |
| 5.2.3 双转角三层石墨烯拉曼光谱分析 | 第101-103页 |
| 第三节 本章总结与讨论 | 第103-105页 |
| 第六章 总结与展望 | 第105-109页 |
| 第一节 总结 | 第105-107页 |
| 第二节 展望 | 第107-109页 |
| 参考文献 | 第109-117页 |
| 个人简历 | 第117页 |
| 在学期间发表的学术论文及研究成果 | 第117-118页 |
