摘要 | 第11-13页 |
Abstract | 第13-14页 |
第一章 引言 | 第15-33页 |
1.1 锆资源概况及其应用 | 第15-17页 |
1.1.1 锆资源概况 | 第15-16页 |
1.1.2 锆英砂 | 第16页 |
1.1.3 我国锆铪产业发展概况 | 第16-17页 |
1.2 氧氯化锆性质及应用 | 第17-20页 |
1.2.1 氧氯化锆的性质 | 第17-18页 |
1.2.2 氧氯化锆的应用领域 | 第18页 |
1.2.3 我国氧氯化锆产业的发展 | 第18-20页 |
1.3 氧氯化锆生产工艺及研究进展 | 第20-27页 |
1.3.1 氢氧化钠烧结分解锆英砂制备氧氯化锆 | 第20-22页 |
1.3.2 碳酸钙、氧化钙或氢氧化钙高温分解锆英砂制备氧氯化锆 | 第22-24页 |
1.3.3 碳酸钠高温分解锆英砂制备氧氯化锆 | 第24-25页 |
1.3.4 氯化水解法制取氧氯化锆 | 第25-26页 |
1.3.5 碳氮化锆碱熔法制取氧氯化锆的研究 | 第26-27页 |
1.4 硅化合物的性质与分类 | 第27-30页 |
1.4.1 硅酸盐的应用与分类 | 第27-29页 |
1.4.2 无定形二氧化硅 | 第29-30页 |
1.5 本文研究背景、意义及内容 | 第30-33页 |
1.5.1 本课题的研究背景和提出 | 第30-31页 |
1.5.2 本课题的研究内容和意义 | 第31-33页 |
第二章 实验原料及表征 | 第33-36页 |
2.1 实验原料的制备原理 | 第33-35页 |
2.2 实验原料的分析和表征 | 第35-36页 |
第三章 水洗工艺中硅、锆形态及其分离规律 | 第36-47页 |
3.1 概述 | 第36页 |
3.2 实验装置与分析仪器 | 第36-37页 |
3.3 实验方法 | 第37页 |
3.4 水洗过程主要参数对脱硅脱钠的影响 | 第37-41页 |
3.4.1 洗涤次数对水洗效果的影响 | 第37-38页 |
3.4.2 温度对水洗效果的影响 | 第38-39页 |
3.4.3 液固比对水洗效果的影响 | 第39页 |
3.4.4 洗涤时间对水洗的影响 | 第39-40页 |
3.4.5 顺流逆流洗涤对比 | 第40-41页 |
3.5 水洗过程硅锆分离表征分析 | 第41-45页 |
3.5.1 XRD分析 | 第41-43页 |
3.5.2 FT-IR分析 | 第43-44页 |
3.5.3 反应机理讨论 | 第44-45页 |
3.6 本章小结 | 第45-47页 |
第四章 转型工艺中硅、锆形态及其分离规律 | 第47-59页 |
4.1 概述 | 第47页 |
4.2 实验装置与分析仪器 | 第47页 |
4.3 实验方法 | 第47-48页 |
4.4 转型脱钠影响因素研究 | 第48-51页 |
4.4.1 终点pH对转型料中钠含量的影响 | 第48-49页 |
4.4.2 温度对转型料中钠含量的影响 | 第49-50页 |
4.4.3 时间对转型料中钠含量的影响 | 第50页 |
4.4.4 液固比对转型料中钠含量的影响 | 第50-51页 |
4.5 转型过程表征分析 | 第51-58页 |
4.5.1 XRD分析 | 第51-52页 |
4.5.2 FT-IR分析 | 第52-53页 |
4.5.3 NMR分析 | 第53-56页 |
4.5.4 UV-VIS分析 | 第56页 |
4.5.5 SEM分析 | 第56-57页 |
4.5.6 反应机理讨论 | 第57-58页 |
4.6 本章小结 | 第58-59页 |
第五章 酸解絮凝工艺优化及其机理探究 | 第59-71页 |
5.1 概述 | 第59页 |
5.2 实验装置及分析仪器 | 第59-60页 |
5.3 实验方法 | 第60页 |
5.4 酸解条件优化及硅锆分离规律讨论 | 第60-64页 |
5.4.1 酸度对酸解的影响 | 第60-61页 |
5.4.2 温度对酸解的影响 | 第61-62页 |
5.4.3 时间对酸解的影响 | 第62-63页 |
5.4.4 硅酸聚合过程讨论 | 第63-64页 |
5.5 絮凝工艺优化及硅锆分离规律讨论 | 第64-69页 |
5.5.1 絮凝剂筛选 | 第64-65页 |
5.5.2 絮凝温度对硅锆含量的影响 | 第65页 |
5.5.3 絮凝剂用量对硅锆含量的影响 | 第65-66页 |
5.5.4 絮凝时间对硅锆含量的影响 | 第66-67页 |
5.5.5 絮凝机理讨论 | 第67-69页 |
5.6 本章小结 | 第69-71页 |
第六章 结论与展望 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-79页 |
附录 | 第79-80页 |
个人简历 | 第79页 |
发表文章目录 | 第79-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
附件 | 第81页 |