摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 引言 | 第9-23页 |
1.1 概述 | 第9-13页 |
1.1.1 薄膜的特性 | 第9-12页 |
1.1.2 薄膜材料的研究现状 | 第12-13页 |
1.2 硫化铅薄膜 | 第13-18页 |
1.2.1 物理方法 | 第13-14页 |
1.2.2 化学方法 | 第14-18页 |
1.3 钙钛矿薄膜材料 | 第18-21页 |
1.4 本课题的研究内容及意义 | 第21-23页 |
第二章 基于自组装单分子层调控硫化铅薄膜的微观结构及性能 | 第23-40页 |
2.1 引言 | 第23-25页 |
2.2 实验部分 | 第25-28页 |
2.2.1 实验原料 | 第25-26页 |
2.2.2 硫化铅器件的制备 | 第26-28页 |
2.2.3 测试及表征 | 第28页 |
2.3 结果与讨论 | 第28-39页 |
2.3.1 前驱体浓度和溶剂对硫化铅薄膜微观结构的影响 | 第28-34页 |
2.3.2 以MPA为自组装单分子层改善PbS薄膜的微观形貌 | 第34-37页 |
2.3.3 以MPA作为自组装单分子层提高PbS薄膜的性能 | 第37-39页 |
2.4 结论 | 第39-40页 |
第三章 基于黄酸铅配合物制备CH_3NH_3PbI_3薄膜以及光电性能的研究 | 第40-52页 |
3.1 引言 | 第40-42页 |
3.2 实验部分 | 第42-45页 |
3.2.1 实验原料 | 第42-43页 |
3.2.2 CH_3NH_3PbI_3薄膜以及器件的制备 | 第43-45页 |
3.2.3 测试及表征 | 第45页 |
3.3 结果与讨论 | 第45-51页 |
3.3.1 黄酸铅配合物作为一种新的铅源形成CH_3NH_3PbI_3薄膜 | 第45-49页 |
3.3.2 CH_3NH_3PbI_3薄膜的光学性能 | 第49页 |
3.3.3 CH_3NH_3PbI_3薄膜的电学性能 | 第49-51页 |
3.4 结论 | 第51-52页 |
第四章 结论与展望 | 第52-54页 |
4.1 结论 | 第52-53页 |
4.2 展望 | 第53-54页 |
致谢 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-61页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第61页 |