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CsI(Tl)膜抗潮解技术及光转换组件结构设计研究

摘要第5-7页
abstract第7-8页
第一章 绪论第11-24页
    1.1 X射线探测器第11-13页
        1.1.1 半导体X射线探测器第11-12页
        1.1.2 闪烁体X射线探测器第12-13页
    1.2 闪烁体材料第13-15页
        1.2.1 CsI系闪烁体材料第13页
        1.2.2 CsI:Tl闪烁体第13-15页
    1.3 CsI潮解国内外研究状况第15-22页
    1.4 本文选题依据及内容安排第22-24页
第二章 潮解对CsI:Tl结构及性能影响的实验研究第24-35页
    2.1 引言第24页
    2.2 CsI:Tl薄膜潮解的验证第24-26页
        2.2.1 掺铊碘化铯薄膜样品准备第24页
        2.2.2 CsI:Tl薄膜潮解的验证结果第24-26页
    2.3 潮解对CsI:Tl薄膜结构的影响第26-31页
        2.3.1 潮解对CsI:Tl薄膜表面形貌的影响第26-29页
        2.3.2 潮解对CsI:Tl薄膜生长取向的影响第29-31页
    2.4 潮解对CsI:Tl薄膜荧光光谱的影响第31-34页
    2.5 本章小节第34-35页
第三章 CsI:Tl抗潮解方案的设计与评价第35-51页
    3.1 引言第35页
    3.2 抗潮解方案的选择第35-39页
        3.2.1 共掺杂法第36页
        3.2.2 镀制高聚物保护膜第36页
        3.2.3 镀制金属保护膜第36-38页
        3.2.4 镀制非金属保护膜第38-39页
    3.3 CsI:Tl抗潮解薄膜制备第39-43页
        3.3.1 抗潮解铝膜制备第39-40页
        3.3.2 抗潮解非金属膜制备第40-43页
    3.4 CsI:Tl抗潮解薄膜抗潮解性能分析第43-50页
        3.4.1 抗潮解铝膜的抗潮解性能第43-46页
        3.4.2 抗潮解二氧化硅膜的抗潮解性能第46-47页
        3.4.3 抗潮解氮化硅膜的抗潮解性能第47-50页
    3.5 本章小结第50-51页
第四章 X射线探测器光转换组件设计第51-66页
    4.1 引言第51-52页
    4.2 光学设计的一般过程第52页
    4.3 光学系统初始结构的选定第52-55页
        4.3.1 代数法第53页
        4.3.2 缩放法第53-55页
    4.4 光转换组件的基础设计第55-59页
        4.4.1 光转换组件设计基本要求第55-56页
        4.4.2 光转换组件参数的计算第56-57页
        4.4.3 基于ZEMAX的光转换组件搭建第57-59页
    4.5 基础光转换组件设计的评价第59-65页
    4.6 本章小结第65-66页
第五章 X射线探测器光转换组件的优化与评价第66-81页
    5.1 基础光转换组件的优化与评价第66-73页
    5.2 三透镜光转换组件的设计与评价第73-80页
        5.2.1 三透镜光转换组件的优化设计第74-75页
        5.2.2 三透镜光转换组件的评价第75-80页
    5.3 本章小结第80-81页
第六章 总结第81-83页
    6.1 本文工作总结第81-82页
    6.2 展望第82-83页
致谢第83-84页
参考文献第84-87页
攻读硕士学位期间研究成果第87-88页

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