热光可调谐滤波器及其关键技术研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 可调谐F-P滤波器简介 | 第11-14页 |
| 1.3 热光可调谐F-P滤波器研究进展 | 第14-16页 |
| 1.4 本文选题依据及内容安排 | 第16-18页 |
| 第二章 光学薄膜设计理论及制备技术 | 第18-25页 |
| 2.1 单层光学薄膜特性分析 | 第18-19页 |
| 2.2 多层光学薄膜特性及设计 | 第19-21页 |
| 2.3 光学薄膜的制备技术 | 第21-24页 |
| 2.3.1 PECVD技术原理 | 第21-22页 |
| 2.3.2 PECVD制备非晶硅薄膜机理 | 第22-24页 |
| 2.3.3 PECVD制备氮化硅薄膜机理 | 第24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 薄膜滤波器结构设计及优化 | 第25-34页 |
| 3.1 F-P薄膜滤波器的结构设计 | 第25-28页 |
| 3.1.1 F-P薄膜滤波器的原理及参数表征 | 第25-26页 |
| 3.1.2 薄膜滤波器的设计 | 第26-28页 |
| 3.2 热光可调谐薄膜滤波器滤波特性优化设计 | 第28-31页 |
| 3.2.1 滤波器薄膜材料的选择 | 第28-29页 |
| 3.2.2 反射镜周期数对滤波器影响 | 第29-30页 |
| 3.2.3 腔层厚度对滤波器影响 | 第30页 |
| 3.2.4 多腔结构对滤波器透射特性的影响 | 第30-31页 |
| 3.3 热光调谐滤波器的调谐性能研究 | 第31-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 调谐滤波单元器件的工艺制备与性能测试 | 第34-57页 |
| 4.1 引言 | 第34页 |
| 4.2 单元滤波器件的制备工艺方案 | 第34-44页 |
| 4.2.1 滤波器膜层工艺的确定 | 第34-42页 |
| 4.2.2 薄膜滤波器的工艺误差研究 | 第42-44页 |
| 4.3 滤波器的实验制备及性能分析 | 第44-49页 |
| 4.3.1 实验制备 | 第44-45页 |
| 4.3.2 性能测试与分析 | 第45-49页 |
| 4.4 滤波器调谐性能测试及分析 | 第49-55页 |
| 4.4.1 热调谐分析 | 第49-53页 |
| 4.4.2 器件性能均匀性测试及分析 | 第53-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 滤波器阵列制备及表征 | 第57-65页 |
| 5.1 引言 | 第57页 |
| 5.2 滤波器阵列化的制备 | 第57-59页 |
| 5.3 滤波器阵列表征 | 第59-64页 |
| 5.3.1 阵列结构表征 | 第59-61页 |
| 5.3.2 性能表征 | 第61-64页 |
| 5.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 总结 | 第65-66页 |
| 6.2 展望 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第71-72页 |
