| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 选题背景及意义 | 第11页 |
| 1.2 制氧空分纯化再生系统的发展状况 | 第11-13页 |
| 1.3 分子筛纯化再生控制系统设计要点 | 第13-14页 |
| 1.4 集散控制系统简介 | 第14-15页 |
| 1.5 本文研究的意义及主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 分子筛纯化再生系统 | 第17-35页 |
| 2.1 分子筛纯化再生系统 | 第17-19页 |
| 2.1.1 首钢35000Nm~3/h分子筛纯化再生系统 | 第17-18页 |
| 2.1.2 分子筛纯化装置系统结构 | 第18-19页 |
| 2.2 分子筛纯化再生系统的纯化再生原理 | 第19-29页 |
| 2.2.1 分子筛及氧化铝的特性 | 第19-22页 |
| 2.2.2 纯化原理—吸附作用及分子筛吸附过程 | 第22-24页 |
| 2.2.3 分子筛和氧化铝对水分及其他杂质的吸附 | 第24-25页 |
| 2.2.4 影响分子筛吸附性能的因素 | 第25页 |
| 2.2.5 再生原理—解吸作用及分子筛的再生过程 | 第25-29页 |
| 2.3 分子筛吸附再生各阶段控制要素 | 第29-32页 |
| 2.3.1 分子筛吸附及控制要素 | 第30页 |
| 2.3.2 分子筛加热再生及控制要素 | 第30-31页 |
| 2.3.3 分子筛冷吹及控制要素 | 第31页 |
| 2.3.4 分子筛切换及控制要素 | 第31-32页 |
| 2.4 首钢35000Nm~3/h制氧机纯化系统设计参数及控制流程 | 第32-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 分子筛纯化再生系统改进及优化 | 第35-61页 |
| 3.1 分子筛纯化再生系统原有工艺及控制 | 第35-36页 |
| 3.2 分子筛纯化再生系统影响因素及改进 | 第36-39页 |
| 3.3 分子筛纯化再生主要控制参数及特殊再生控制方案 | 第39-50页 |
| 3.3.1 分子筛纯化再生主要控制参数 | 第39-43页 |
| 3.3.2 PID控制及空分设备上典型的控制回路和系统 | 第43-48页 |
| 3.3.3 分子筛特殊再生控制方案确定 | 第48-50页 |
| 3.4 分子筛纯化再生系统的模型计算与优化控制 | 第50-60页 |
| 3.4.1 分子筛纯化系统循环时间模型的确定 | 第52-56页 |
| 3.4.2 分子筛纯化再生加热时间模型的确定 | 第56-59页 |
| 3.4.3 分子筛纯化冷吹时间模型的确定 | 第59-60页 |
| 3.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 第4章 分子筛纯化再生系统优化运行实现 | 第61-81页 |
| 4.1 CENTUM CS3000系统构成及特点 | 第61-63页 |
| 4.2 控制系统的硬件实现 | 第63-69页 |
| 4.2.1 现场控制站FCS的配置 | 第63-64页 |
| 4.2.2 输入/输出(I/O)模块的配置 | 第64-65页 |
| 4.2.3 人机接口站HIS的配置 | 第65-66页 |
| 4.2.4 网络与通讯配置 | 第66-67页 |
| 4.2.5 冗余与安全配置 | 第67-69页 |
| 4.3 系统的控制实现 | 第69-71页 |
| 4.4 首钢35000Nm~3/h分子筛纯化再生系统优化运行实现 | 第71-78页 |
| 4.4.1 分子筛纯化再生优化控制功能的实现 | 第71-73页 |
| 4.4.2 分子筛纯化再生优化控制逻辑实现 | 第73-75页 |
| 4.4.3 分子筛纯化再生优化监视、报警控制实现 | 第75-78页 |
| 4.5 分子筛纯化再生优化控制后实际运行改善 | 第78-80页 |
| 4.6 本章小结 | 第80-81页 |
| 第5章 结论与展望 | 第81-83页 |
| 5.1 结论 | 第81页 |
| 5.2 展望 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
