磁控溅射制备TiB2薄膜及薄膜特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-19页 |
| ·高温管线的寿命监测技术 | 第9-10页 |
| ·高温应变计的研究进展 | 第10-11页 |
| ·溅射镀膜技术 | 第11-13页 |
| ·直流磁控溅射 | 第12-13页 |
| ·射频磁控溅射 | 第13页 |
| ·TiB_2薄膜研究进展 | 第13-17页 |
| ·本文的研究思路和章节安排 | 第17-18页 |
| ·本章小结 | 第18-19页 |
| 第二章 实验设备与检测方法 | 第19-27页 |
| ·溅射镀膜设备 | 第19-21页 |
| ·JCP300磁控溅射镀膜机 | 第19页 |
| ·靶材 | 第19-20页 |
| ·TiB_2薄膜制备工艺 | 第20-21页 |
| ·薄膜样品的检测方法 | 第21-26页 |
| ·成分表征 | 第21页 |
| ·形貌表征 | 第21-22页 |
| ·结构表征 | 第22页 |
| ·厚度表征 | 第22-23页 |
| ·电阻率测量 | 第23-24页 |
| ·电阻温度系数测试 | 第24-25页 |
| ·电阻应变系数测量 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 磁控溅射制备TiB_2薄膜 | 第27-32页 |
| ·实验 | 第27页 |
| ·薄膜的沉积速率 | 第27-28页 |
| ·薄膜的成分 | 第28-31页 |
| ·TiB_2靶材的成分 | 第28-30页 |
| ·镀膜的成分和结构 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 溅射态TiB_2薄膜形貌与性能研究 | 第32-45页 |
| ·薄膜表观颗粒尺寸 | 第32-34页 |
| ·薄膜的粗糙度 | 第34-37页 |
| ·薄膜的电阻特性 | 第37-42页 |
| ·薄膜的电阻温度系数 | 第42页 |
| ·薄膜的电阻应变系数 | 第42-43页 |
| ·掩膜法制备薄膜应变花的散射现象 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 热处理对TiB_2薄膜形貌及性能影响 | 第45-54页 |
| ·薄膜热处理 | 第45页 |
| ·热处理对薄膜结构的影响 | 第45-46页 |
| ·热处理对薄膜形貌的影响 | 第46-49页 |
| ·热处理对薄膜粗糙度的影响 | 第49-51页 |
| ·热处理对薄膜TCR的影响 | 第51-52页 |
| ·热处理对薄膜方阻的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 结论、创新点及展望 | 第54-55页 |
| ·结论 | 第54页 |
| ·创新点 | 第54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读硕士期间科研成果 | 第62页 |
