| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-28页 |
| ·硫化钼研究的背景和意义 | 第8页 |
| ·硫化钼的基本信息 | 第8-12页 |
| ·硫化钼的基本结构和能带结构 | 第8-10页 |
| ·硫化钼的物理性质 | 第10-11页 |
| ·硫化钼的光学性质 | 第11-12页 |
| ·硫化钼目前研究进展和应用 | 第12-21页 |
| ·硫化钼在晶体管中的应用 | 第12-15页 |
| ·硫化钼在光电领域的应用 | 第15-17页 |
| ·硫化钼在气敏传感器和生物传感器中的研究 | 第17-21页 |
| ·硫化钼的制备方法 | 第21-24页 |
| ·微机械剥离法 | 第21-22页 |
| ·自上而下的剥离法 | 第22-23页 |
| ·自下而上的合成法 | 第23-24页 |
| ·本文选题意义及主要内容 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-28页 |
| 第二章 缺陷引入对硫化钼光学性质影响的研究 | 第28-37页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验部分 | 第28-30页 |
| ·单层硫化钼的制备 | 第28-30页 |
| ·单层硫化钼不同退火条件下的光学表征 | 第30页 |
| ·实验结果与讨论 | 第30-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 过氧化氢对硫化钼光学性质影响的研究 | 第37-49页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·激子和多激子对硫化钼光学性质的影响 | 第37-40页 |
| ·过氧化氢处理后硫化钼光学性质的变化 | 第40-47页 |
| ·本章小结 | 第47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第四章 氢化碳化硅薄膜的制备、光学性质和三维纳米线结构发光增强的研究 | 第49-58页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·氢化碳化硅薄膜制备与表征 | 第50-51页 |
| ·实验结果与讨论 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
| ·结论 | 第58-59页 |
| ·展望 | 第59-60页 |
| 攻读硕士期间学术论文发表情况 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |