| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| ·药型罩的聚能效应 | 第11-13页 |
| ·药型罩破甲威力的影响因素 | 第13-17页 |
| ·密度 | 第13页 |
| ·声速 | 第13-15页 |
| ·晶粒尺寸 | 第15页 |
| ·织构 | 第15-16页 |
| ·空洞及杂质 | 第16-17页 |
| ·药型罩材料研究进展 | 第17-21页 |
| ·纯金属药型罩材料的发展 | 第17-19页 |
| ·纯钨药型罩研究进展与现状 | 第19-21页 |
| ·CVD 技术制备纯钨药型罩的研究进展与现状 | 第21-23页 |
| ·CVD 技术优势与特点 | 第21页 |
| ·CVD 纯钨药型罩国内研究成果 | 第21-23页 |
| ·论文研究的意义、目的及研究内容 | 第23-25页 |
| ·论文研究意义 | 第23-24页 |
| ·论文研究目的及研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 研究方法与分析测试技术 | 第25-34页 |
| ·研究整体方案 | 第25页 |
| ·材料制备 | 第25-29页 |
| ·实验原料和 CVD 沉积设备 | 第25-27页 |
| ·100mm 口径纯钨药型罩的制备 | 第27-29页 |
| ·静破甲试验 | 第29-30页 |
| ·纯钨药型罩的分析 | 第30-32页 |
| ·致密度分析 | 第30页 |
| ·纯度分析 | 第30-31页 |
| ·织构分析 | 第31-32页 |
| ·弹道附近微观组织分析 | 第32-34页 |
| 第3章 纯钨 CVD 制备工艺的优化与纯钨药型罩的制备 | 第34-52页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·CVD 制备工艺的研究及优化 | 第34-42页 |
| ·沉积温度对纯钨组织的影响 | 第37-38页 |
| ·气体流量对纯钨组织的影响 | 第38-42页 |
| ·大口径纯钨药型罩的制备 | 第42-51页 |
| ·CVD 技术制备纯钨药型罩操作流程 | 第43-45页 |
| ·大口径纯钨药型罩结构稳定性的优化 | 第45-49页 |
| ·大口径纯钨药型罩表面质量的优化 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 大口径纯钨药型罩的破甲特性与破甲机理 | 第52-66页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·纯钨药型罩微观组织分析 | 第52-54页 |
| ·组织的显微硬度分析 | 第52-53页 |
| ·显微组织的 EBSD 分析 | 第53-54页 |
| ·纯钨药型罩破甲特性与破甲机理 | 第54-65页 |
| ·弹口形貌及弹道特征 | 第54-56页 |
| ·回收靶板的微观组织分析 | 第56-64页 |
| ·纯钨射流对靶板的毁伤过程 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读硕士期间发表论文与研究成果清单 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |