AISI316激光熔覆成形过程数值模拟研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| ·选题背景与意义 | 第11-12页 |
| ·相关领域研究现状和进展 | 第12-19页 |
| ·快速凝固理论研究 | 第13-14页 |
| ·数学物理模型理论研究 | 第14-16页 |
| ·数值模拟研究 | 第16-18页 |
| ·存在的问题 | 第18-19页 |
| ·本课题的主要研究内容与目的 | 第19-21页 |
| 第2章 激光熔覆成形过程数值模拟解决方案 | 第21-29页 |
| ·激光熔覆成形过程的温度场特点 | 第21-22页 |
| ·温度场的有限元求解 | 第22-28页 |
| ·参数化模拟方案与计算流程 | 第22-23页 |
| ·模型的简化与建立 | 第23-24页 |
| ·单元类型的确定与网格划分 | 第24-25页 |
| ·移动热源的加载 | 第25页 |
| ·材料性能及参数设定 | 第25-26页 |
| ·相变潜热的处理 | 第26-27页 |
| ·初始条件和边界条件的设定 | 第27页 |
| ·瞬态温度场算法构造 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 激光熔覆成形过程的模型解析 | 第29-39页 |
| ·激光与基体的交互作用 | 第29-34页 |
| ·热源模型数值模拟结果对比与选取 | 第29-32页 |
| ·工艺参数与激光熔池特征的关系 | 第32-33页 |
| ·激光熔覆最低条件及其数值分析 | 第33-34页 |
| ·激光与粉末的交互作用 | 第34-38页 |
| ·粉末对激光的遮蔽作用 | 第35页 |
| ·粉末温升与温升临界功率 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 单层激光熔覆温度场数值模拟 | 第39-63页 |
| ·热源模型校核与温度场分布特征 | 第39-46页 |
| ·不同工艺参数对激光熔覆温度场的影响 | 第46-55页 |
| ·激光功率对单层激光熔覆温度场的影响 | 第46-51页 |
| ·基体预热温度对单层激光熔覆温度场的影响 | 第51-52页 |
| ·激光扫描速度对单层激光熔覆温度场的影响 | 第52-55页 |
| ·实际临界扫描速度的探讨 | 第55-57页 |
| ·实际临界扫描速度的理论计算 | 第55-56页 |
| ·实际临界扫描速度的有限元计算与验证 | 第56-57页 |
| ·温度场验证与微观组织分析预测 | 第57-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第5章 激光熔覆成形温度场数值模拟 | 第63-79页 |
| ·激光熔覆成形瞬态温度场特征分析 | 第63-71页 |
| ·不同工艺参数对瞬态温度场的影响 | 第71-73页 |
| ·不同扫描方式对瞬态温度场的影响 | 第71-72页 |
| ·间歇时间对瞬态温度场的影响 | 第72-73页 |
| ·激光熔覆成形过程能量的调节与控制 | 第73-76页 |
| ·激光熔覆成形薄壁温度场验证与微观组织分析 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 总结与展望 | 第79-81页 |
| 总结 | 第79-80页 |
| 展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-85页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第85-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
