摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-25页 |
·课题研究背景及研究目的和意义 | 第10-11页 |
·分子印迹技术 | 第11-19页 |
·分子印迹技术的发展概况及研究现状 | 第11-13页 |
·分子印迹技术的基本原理 | 第13-15页 |
·分子印迹技术的分类 | 第15-16页 |
·分子印迹聚合物的制备方法 | 第16-18页 |
·分子印迹技术的应用 | 第18-19页 |
·基于硅胶表面的分子印迹技术 | 第19-24页 |
·硅胶表面分子印迹聚合物的制备方法 | 第20-22页 |
·硅胶表面分子印迹聚合物的应用 | 第22-23页 |
·硅胶表面分子印迹技术存在的主要问题 | 第23-24页 |
·本文的主要研究内容 | 第24-25页 |
第2章 实验材料及方法 | 第25-36页 |
·实验仪器与试剂 | 第25-28页 |
·实验所用仪器与设备 | 第25-26页 |
·实验试剂 | 第26-27页 |
·化学试剂的预处理 | 第27-28页 |
·实验部分 | 第28-31页 |
·以APTES 为改性剂制备硅胶表面印迹聚合物 | 第28-30页 |
·以VVTS 为改性剂制备硅胶表面印迹聚合物 | 第30-31页 |
·印迹聚合物的结构表征 | 第31-33页 |
·红外光谱测试(FT-IR) | 第31-32页 |
·热重-差热分析(TG-DTA) | 第32页 |
·N2 吸附-脱附等温曲线 | 第32页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第32页 |
·能量色散显微分析(EDS) | 第32-33页 |
·印迹聚合物吸附性能测试 | 第33-34页 |
·吸附动力学 | 第33页 |
·饱和吸附性能 | 第33页 |
·等温吸附性能 | 第33-34页 |
·吸附选择性 | 第34页 |
·重复利用率 | 第34页 |
·分子印迹固相萃取实验 | 第34-36页 |
·分子印迹固相萃取柱的制备 | 第34-35页 |
·分子印迹固相萃取柱性能评价 | 第35页 |
·奶制品中三聚氰胺的固相萃取 | 第35-36页 |
第3章 以APTES 为改性剂制备硅胶表面印迹聚合物 | 第36-56页 |
·模板分子与功能单体的相互作用的研究 | 第36-39页 |
·三聚氰胺溶液的紫外吸收 | 第36-37页 |
·三聚氰胺与MAA 的复合作用 | 第37-39页 |
·硅胶表面印迹聚合物的制备 | 第39-45页 |
·硅胶活化条件的考察 | 第39-40页 |
·反应溶剂的选择 | 第40-41页 |
·功能单体和模板分子的配比及作用方式的研究 | 第41-44页 |
·模板分子洗脱条件的考察 | 第44-45页 |
·印迹聚合物的结构表征 | 第45-50页 |
·红外光谱分析 | 第45-46页 |
·热重分析 | 第46-47页 |
·EDS 能谱分析 | 第47-48页 |
·扫描电镜分析 | 第48-49页 |
·N_2 吸附-脱附实验 | 第49-50页 |
·印迹聚合物吸附性能 | 第50-55页 |
·吸附动力学 | 第50-51页 |
·饱和吸附性能 | 第51页 |
·吸附等温线 | 第51-52页 |
·Scatchard 方程解析 | 第52-53页 |
·吸附选择性 | 第53-54页 |
·重复利用率 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第4章 以VTTS 为改性剂制备硅胶表面印迹聚合物 | 第56-72页 |
·硅胶表面印迹聚合物的制备 | 第56-58页 |
·三聚氰胺与MAA 在乙二醇-乙腈(1:20,V/V)中的相互作用 | 第56-57页 |
·改性硅胶的用量对印迹聚合物产率的影响 | 第57页 |
·不同溶剂对印迹聚合物的吸附性能的影响 | 第57-58页 |
·印迹聚合物的结构表征 | 第58-62页 |
·红外光谱分析 | 第58-59页 |
·热重-差热分析 | 第59-60页 |
·EDS 能谱分析 | 第60-61页 |
·扫描电镜分析 | 第61-62页 |
·N_2 吸附-脱附测试 | 第62页 |
·印迹聚合物的吸附性能 | 第62-68页 |
·吸附动力学 | 第63-64页 |
·饱和吸附性能 | 第64-65页 |
·等温吸附性能 | 第65页 |
·吸附选择性 | 第65-66页 |
·Scatchard 方程解析 | 第66-67页 |
·重复利用率 | 第67-68页 |
·分子印迹固相萃取 | 第68-70页 |
·MISPE 的性能评价 | 第68-69页 |
·奶制品的固相萃取 | 第69-70页 |
·本章小结 | 第70-72页 |
结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-79页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第79-81页 |
致谢 | 第81页 |