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半导体硅与砷化镓光学性质温度依赖性的第一性原理研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-15页
   ·本课题的研究背景与研究意义第9-10页
   ·国内外研究现状第10-14页
     ·电子—声子相互作用第11-13页
     ·声子—声子相互作用第13-14页
   ·本文的研究工作第14-15页
第2章 基于密度泛函理论的第一性原理计算方法第15-31页
   ·第一性原理方法第15-17页
   ·密度泛函理论第17-22页
     ·局域密度近似第21页
     ·平面波基函数第21-22页
     ·赝势第22页
   ·多体方法:GW近似与BS方程第22-26页
     ·GW近似第23-24页
     ·BS方程第24-26页
   ·密度泛函微扰理论第26-29页
     ·线性响应理论第28-29页
     ·晶格热膨胀第29页
   ·第一性原理计算软件:ABINIT与Quantum ESPRESSO第29-30页
   ·本章小结第30-31页
第3章 半导体材料光学性质的温度依赖性第31-44页
   ·半导体材料电磁响应机制与光学性质第31-35页
     ·电子能带理论与紫外—可见光学性质第33-34页
     ·晶格动力学与红外光学性质第34-35页
   ·电子—声子相互作用第35-40页
     ·电子能带结构热修正第36-39页
     ·紫外—可见光谱温度依赖性第39-40页
   ·声子—声子相互作用第40-43页
     ·声子能带结构热修正第40-42页
     ·红外光谱温度依赖性第42-43页
   ·本章小结第43-44页
第4章 温度对硅紫外—可见光谱的影响第44-57页
   ·计算模型与方法第44-47页
   ·电子能带结构热修正第47-49页
   ·温度对紫外—可见光谱的影响第49-56页
   ·本章小结第56-57页
第5章 温度对砷化镓红外光谱的影响第57-69页
   ·计算模型与方法第57-58页
   ·声子能带结构热修正第58-60页
   ·温度对红外光谱的影响第60-64页
   ·温度对红外辐射特性的影响第64-68页
   ·本章小结第68-69页
结论第69-71页
参考文献第71-76页
攻读学位期间发表的学术论文第76-80页
致谢第80页

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