| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-28页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·金刚石结构与性质概述 | 第14-18页 |
| ·金刚石的结构特征 | 第14-15页 |
| ·金刚石的性质 | 第15-18页 |
| ·n型纳米金刚石(NCD)薄膜的研究进展 | 第18-27页 |
| ·NCD薄膜的定义 | 第18页 |
| ·纳米与超纳米金刚石薄膜的一般性区别 | 第18-20页 |
| ·NCD薄膜的物理性能 | 第20-23页 |
| ·NCD薄膜的应用前景 | 第23-24页 |
| ·CVD掺氮制备n型NCD薄膜 | 第24-25页 |
| ·离子注入制备n型NCD薄膜 | 第25-27页 |
| ·问题的提出与本文的研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 不同退火温度对低剂量氧离子注入NCD薄膜微结构和电学性能的影响 | 第28-52页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验 | 第28-31页 |
| ·CVD金刚石实验装置及衬底预处理 | 第28-29页 |
| ·本征NCD薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·退火及离子注入方案 | 第30-31页 |
| ·退火对本征NCD薄膜的微结构和电学性能的影响 | 第31-44页 |
| ·FESEM测试 | 第31-33页 |
| ·HRTEM测试 | 第33-35页 |
| ·Raman光谱测试 | 第35-44页 |
| ·不同退火温度对低剂量氧离子注入NCD薄膜电学性能的影响 | 第44-50页 |
| ·Hall效应测试 | 第44-47页 |
| ·变温两探针法电阻测试 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第三章 不同氧离子注入剂量对NCD薄膜微结构和电学性能的影响 | 第52-61页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验 | 第52-53页 |
| ·不同氧离子注入剂量对NCD薄膜微结构的影响 | 第53-57页 |
| ·不同氧离子注入剂量对NCD薄膜电学性能的影响 | 第57-60页 |
| ·Hall效应测试 | 第57-58页 |
| ·变温两探针法电阻测试 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 不同温度退火过程中NCD薄膜内金刚石相与非晶碳晶界的相变机理 | 第61-75页 |
| ·引言 | 第61-62页 |
| ·实验 | 第62页 |
| ·结果与讨论 | 第62-73页 |
| ·Raman光谱测试 | 第62-66页 |
| ·XPS测试 | 第66-69页 |
| ·FTIR测试 | 第69-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 第五章 结论 | 第75-77页 |
| 本文创新点 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第90页 |
