| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·金刚石的性质与应用 | 第10-13页 |
| ·金刚石的结构与性质 | 第10-11页 |
| ·金刚石的应用 | 第11-13页 |
| ·纳米金刚石薄膜概述 | 第13-16页 |
| ·纳米金刚石薄膜 | 第13-14页 |
| ·纳米金刚石薄膜的制备 | 第14-15页 |
| ·纳米金刚石薄膜的性质与应用 | 第15-16页 |
| ·金刚石的掺杂 | 第16-19页 |
| ·掺杂类型 | 第16-17页 |
| ·微晶金刚石薄膜的掺杂 | 第17-18页 |
| ·纳米金刚石薄膜的掺杂 | 第18-19页 |
| ·问题的提出与本文的研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 不同退火温度对本征 NCD 薄膜微结构和电学性能的影响 | 第21-39页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·实验 | 第21-24页 |
| ·CVD 金刚石实验装置及衬底预处理 | 第21-22页 |
| ·本征纳米金刚石薄膜的制备 | 第22-23页 |
| ·退火方案及表征手段 | 第23-24页 |
| ·退火对本征金刚石薄膜的微结构和电学性能的影响 | 第24-38页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(FESEM)测试 | 第24-26页 |
| ·高分辨透射电子显微镜(HRTEM)测试 | 第26-28页 |
| ·激光拉曼(Raman)光谱测试 | 第28-34页 |
| ·Hall 效应测试 | 第34-35页 |
| ·变温两探针法电阻测试 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 不同退火温度对低剂量磷离子注入 NCD 薄膜微结构和电学性能的影响 | 第39-52页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验 | 第39-40页 |
| ·不同退火温度下的磷离子和碳离子注入 NCD 薄膜的微结构表征 | 第40-47页 |
| ·场发射电子扫描电镜(FESEM)测试 | 第40-41页 |
| ·高分辨透射电镜(HRTEM)与扫描透射电镜(STEM)测试 | 第41-44页 |
| ·激光 Raman 散射测试 | 第44-47页 |
| ·不同退火温度下的低剂量磷离子注入 NCD 薄膜的电学性能测试 | 第47-50页 |
| ·Hall 效应测试 | 第47-48页 |
| ·变温两探针法电阻测试 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 磷离子注入剂量对 NCD 薄膜微结构和电学性能的影响 | 第52-59页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验 | 第52-53页 |
| ·激光 Raman 散射测试不同剂量磷离子注入 NCD 薄膜的微结构 | 第53-56页 |
| ·不同剂量对磷离子注入 NCD 薄膜的电学性能影响 | 第56-58页 |
| ·Hall 效应测试 | 第56-57页 |
| ·变温两探针法电阻测试 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-61页 |
| 本文创新点 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读学位期间发表的论文及成果 | 第70页 |
