多孔硅的制备及发光特性的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-20页 |
| ·多孔硅研究发展概述 | 第7-8页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第8-11页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第11-14页 |
| ·多孔硅的发光机理 | 第14-17页 |
| ·多孔硅发光材料的应用 | 第17-18页 |
| ·选题意义及研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 电化学阳极腐蚀法制备p型多孔硅实验 | 第20-32页 |
| ·实验材料 | 第20页 |
| ·实验仪器和化学试剂 | 第20-21页 |
| ·实验装置 | 第21-26页 |
| ·工艺流程 | 第26-31页 |
| ·测试方法与仪器 | 第31-32页 |
| 第三章 p型多孔硅电化学阳极腐蚀法制备条件的研究 | 第32-42页 |
| ·p型多孔硅表面形貌的参数 | 第32-33页 |
| ·腐蚀时间对p型多孔硅表面形貌的影响 | 第33-35页 |
| ·电流密度对p型多孔硅表面相貌的影响 | 第35-38页 |
| ·HF浓度对p型多孔硅表面形貌的影响 | 第38-41页 |
| 小结 | 第41-42页 |
| 第四章 p型多孔硅的光致发光特性的研究 | 第42-50页 |
| ·腐蚀时间对p型多孔硅光致发光特性的影响 | 第42-43页 |
| ·电流密度对p型多孔硅光致发光特性的影响 | 第43-44页 |
| ·HF浓度对p型多孔硅光致发光特性的影响 | 第44-45页 |
| ·p型多孔硅光致发光特性制备条件的优化 | 第45-48页 |
| 小结 | 第48-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
