| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·TiO_2基材料的光学性能研究现状 | 第11-17页 |
| ·掺杂改性 | 第11-13页 |
| ·半导体复合 | 第13-14页 |
| ·TiO_2基光催化材料的光催化机理 | 第14-17页 |
| ·TiO_2基材料的磁性能研究现状 | 第17-20页 |
| ·过渡金属掺杂制备 DMS | 第17-19页 |
| ·复合薄膜磁性能的研究现状 | 第19页 |
| ·未掺杂 TiO_2薄膜磁性研究 | 第19页 |
| ·稀磁半导体的磁性机理 | 第19-20页 |
| ·研究意义和研究内容 | 第20-23页 |
| 第二章 计算方法与实验过程 | 第23-31页 |
| ·计算方法 | 第23-26页 |
| ·赝势 | 第23-24页 |
| ·Hamilton 量和 Hartree-Fock 近似 | 第24页 |
| ·Hohenberg-Kohn 定理 | 第24-25页 |
| ·Kohn-Sham 方程 | 第25-26页 |
| ·GGA+U 算法 | 第26页 |
| ·实验过程 | 第26-31页 |
| ·主要实验试剂 | 第26-27页 |
| ·主要实验仪器及实验设备 | 第27-28页 |
| ·TiO_2溶胶和 W 掺杂 TiO_2溶胶的制备 | 第28-29页 |
| ·W-TiO_2纳米薄膜制备 | 第29页 |
| ·WO_3/TiO_2纳米薄膜的制备 | 第29页 |
| ·样品表征 | 第29-31页 |
| 第三章 W 掺杂 TiO_2的磁性及光学性能 | 第31-50页 |
| ·计算模型与方法 | 第31-32页 |
| ·光催化性能表征 | 第32-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-48页 |
| ·U 值的选取 | 第33-35页 |
| ·电子结构与电荷布局分析 | 第35-42页 |
| ·显微结构与表面形貌分析 | 第42-45页 |
| ·光学性能 | 第45-47页 |
| ·磁性能 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 第四章 WO_3/TiO_2的磁性及光学性能 | 第50-66页 |
| ·计算模型与方法 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-63页 |
| ·电子结构与电荷布局分析 | 第51-59页 |
| ·显微结构与表面形貌分析 | 第59-61页 |
| ·光学性能 | 第61-62页 |
| ·磁性能 | 第62-63页 |
| ·小结 | 第63-66页 |
| 第五章 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第80-81页 |