| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·热释光及理论模型 | 第11-16页 |
| ·热释光现象 | 第11页 |
| ·热释光现象的机理 | 第11-13页 |
| ·热释光的动力学模型 | 第13-16页 |
| ·发光曲线的计算机解谱 | 第16页 |
| ·剂量热释光材料及其研究进展 | 第16-20页 |
| ·辐射剂量的应用对热释光材料的要求 | 第16-17页 |
| ·常用的剂量热释光材料 | 第17-18页 |
| ·热释光材料的研究进展 | 第18-19页 |
| ·热释光材料微结构的变化对热释光性能的影响 | 第19-20页 |
| ·硼酸盐热释光材料及其研究进展 | 第20-21页 |
| ·选题背景和研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 实验方法 | 第23-31页 |
| ·四硼酸锂烧结块的制备与表征 | 第23-25页 |
| ·水浴-烧结法 | 第23-24页 |
| ·直接烧结法 | 第24-25页 |
| ·四硼酸锂微晶的制备与表征 | 第25-26页 |
| ·纳米硼酸钙的制备与表征 | 第26-29页 |
| ·样品的辐照与测量 | 第29-30页 |
| ·样品的辐照 | 第29页 |
| ·热释光的测量 | 第29页 |
| ·PL（Photoluminescence）谱的测量 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 硼酸锂烧结块的热释光性能 | 第31-48页 |
| ·水浴-烧结法制备的 Li_2B_4O_7热释光性能 | 第31-41页 |
| ·热释光发光曲线 | 第31-32页 |
| ·烧结温度对热释光性能的影响 | 第32-34页 |
| ·掺杂浓度对热释光性能的影响 | 第34页 |
| ·剂量响应和探测下限 | 第34-35页 |
| ·PL（Photoluminescence）谱 | 第35-38页 |
| ·衰减和重复性 | 第38-39页 |
| ·陷阱参数计算 | 第39-41页 |
| ·直接烧结法制备的 Li_2B_4O_7热释光性能 | 第41-47页 |
| ·热释光发光曲线 | 第41-42页 |
| ·剂量响应和探测下限 | 第42-43页 |
| ·PL（Photoluminescence）谱 | 第43-44页 |
| ·衰减和重复性 | 第44-45页 |
| ·陷阱参数计算 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 硼酸锂微晶的热释光性能 | 第48-56页 |
| ·热释光发光曲线 | 第48-49页 |
| ·剂量响应 | 第49-50页 |
| ·PL（Photoluminescence）谱 | 第50-51页 |
| ·衰减和重复性 | 第51-53页 |
| ·NaCl 共烧结对热释光性能的影响 | 第53-54页 |
| ·陷阱参数计算 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 纳米硼酸钙的热释光性能 | 第56-67页 |
| ·热释光发光曲线 | 第56-57页 |
| ·烧结温度对热释光性能的影响 | 第57-58页 |
| ·掺杂浓度对热释光性能的影响 | 第58-60页 |
| ·剂量响应和探测下限 | 第60页 |
| ·PL（Photoluminescence）谱 | 第60-63页 |
| ·衰减和重复性 | 第63-65页 |
| ·陷阱参数计算 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 总结 | 第67-69页 |
| ·总结 | 第67-68页 |
| ·展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第75页 |
