| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·目前的检测手段 | 第9-10页 |
| ·激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法 | 第10-18页 |
| ·Nd:YAG激光器 | 第11-13页 |
| ·电感耦合等离子体质谱 | 第13-16页 |
| ·LA-ICP-MS法面临的挑战 | 第16-18页 |
| ·分馏效应 | 第16-17页 |
| ·校准方法 | 第17-18页 |
| ·研究内容及意义 | 第18-20页 |
| ·研究内容 | 第18页 |
| ·研究意义 | 第18-20页 |
| 第2章 LA-ICP-MS联机条件的优化 | 第20-34页 |
| ·前言 | 第20页 |
| ·实验部分 | 第20-22页 |
| ·仪器与试剂 | 第20页 |
| ·仪器联机 | 第20-22页 |
| ·实验方法 | 第22页 |
| ·结果与讨论 | 第22-33页 |
| ·剥蚀方式的选择 | 第22-23页 |
| ·激光能量的选择 | 第23-24页 |
| ·激光剥蚀孔径的选择 | 第24-26页 |
| ·扫描速率的选择 | 第26-27页 |
| ·激光频率的选择 | 第27-28页 |
| ·载气种类及流量的选择 | 第28-31页 |
| ·标准曲线 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 LA-ICP-MS分析碳化硅粉末中痕量元素 | 第34-44页 |
| ·前言 | 第34-35页 |
| ·实验部分 | 第35页 |
| ·仪器及试剂 | 第35页 |
| ·碳化硅粉末的消解 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-43页 |
| ·压片条件的优化 | 第35-36页 |
| ·两种制样方法的对比 | 第36-38页 |
| ·烧结温度的优化 | 第38-41页 |
| ·检出限 | 第41页 |
| ·样品的检测 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 LA-ICP-MS分析碳化硅器件中痕量元素 | 第44-51页 |
| ·前言 | 第44-47页 |
| ·碳化桂器件 | 第44-45页 |
| ·二次离子质谱法（SMS) | 第45-46页 |
| ·辉光放电质谱法(GD-MS) | 第46-47页 |
| ·实验部分 | 第47-48页 |
| ·仪器和试剂 | 第47-48页 |
| ·辉光放电质谱法的实验过程 | 第48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-50页 |
| ·分辨率 | 第48-49页 |
| ·条件优化 | 第49页 |
| ·碳化桂器件分析 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 全文总结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-59页 |
| 硕士期间发表的论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |